RUS  ENG ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Импакт-фактор

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Письма в ЖЭТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Письма в ЖЭТФ, 2016, том 104, выпуск 3, страницы 178–183 (Mi jetpl5016)  

Эта публикация цитируется в 9 научных статьях (всего в 9 статьях)

ПЛАЗМА, ГИДРО- И ГАЗОДИНАМИКА

Исследование различных сценариев поведения вольт-амперных характеристик микроразрядов постоянного тока атмосферного давления

А. И. Сайфутдиновab, И. И. Файрушинb, Н. Ф. Кашаповb

a С.-Петербургский государственный университет, 199034 С.-Петербург, Россия
b Казанский федеральный университет, 420008 Казань, Россия

Аннотация: В работе на основе гибридной модели для описания газоразрядной плазмы с самосогласованным описанием нагрева катода проведены численные исследования по установлению вольт-амперной характеристики (ВАХ) разряда при атмосферном давлении в широком диапазоне разрядных токов. На ВАХ разряда выявлены участки, соответствующие нормальному тлеющему разряду, переходу от тлеющего разряда к дуговому и непосредственно дуговому разряду. Получены все основные параметры плазмы для каждого из участков на ВАХ разряда.

Финансовая поддержка Номер гранта
Российский фонд фундаментальных исследований 16-38-60187_мол_а_дк
Исследование выполнено при финансовой поддержке РФФИ в рамках научного проекта # 16-38-60187 мол_а_дк. Работа частично поддержана КФУ.


DOI: https://doi.org/10.7868/S0370274X16150078

Полный текст: PDF файл (596 kB)
Список литературы: PDF файл   HTML файл

Англоязычная версия:
Journal of Experimental and Theoretical Physics Letters, 2016, 104:3, 180–185

Реферативные базы данных:

Тип публикации: Статья
Поступила в редакцию: 22.03.2016
Исправленный вариант: 14.06.2016

Образец цитирования: А. И. Сайфутдинов, И. И. Файрушин, Н. Ф. Кашапов, “Исследование различных сценариев поведения вольт-амперных характеристик микроразрядов постоянного тока атмосферного давления”, Письма в ЖЭТФ, 104:3 (2016), 178–183; JETP Letters, 104:3 (2016), 180–185

Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{SaiFaiKas16}
\by А.~И.~Сайфутдинов, И.~И.~Файрушин, Н.~Ф.~Кашапов
\paper Исследование различных сценариев поведения вольт-амперных характеристик микроразрядов постоянного тока атмосферного давления
\jour Письма в ЖЭТФ
\yr 2016
\vol 104
\issue 3
\pages 178--183
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jetpl5016}
\crossref{https://doi.org/10.7868/S0370274X16150078}
\elib{http://elibrary.ru/item.asp?id=26463496}
\transl
\jour JETP Letters
\yr 2016
\vol 104
\issue 3
\pages 180--185
\crossref{https://doi.org/10.1134/S0021364016150145}
\isi{http://gateway.isiknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcApp=PARTNER_APP&SrcAuth=LinksAMR&DestLinkType=FullRecord&DestApp=ALL_WOS&KeyUT=000386674600007}
\scopus{http://www.scopus.com/record/display.url?origin=inward&eid=2-s2.0-84991790923}


Образцы ссылок на эту страницу:
  • http://mi.mathnet.ru/jetpl5016
  • http://mi.mathnet.ru/rus/jetpl/v104/i3/p178

    ОТПРАВИТЬ: VKontakte.ru FaceBook Twitter Mail.ru Livejournal Memori.ru


    Citing articles on Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles on Google Scholar: Russian articles, English articles

    Эта публикация цитируется в следующих статьяx:
    1. R. F. Yunusov, M. M. Garipov, International Conference - the Physics of Low Temperature Plasma (PLTP-2017), Journal of Physics Conference Series, 927, IOP Publishing Ltd, 2017, UNSP 012076  crossref  isi
    2. A. Hakki, K. Sadikov, N. Kashapov, VIII All-Russian (With International Participation) Conference on Low Temperature Plasma in the Processes of Functional Coating Preparation, Journal of Physics Conference Series, 789, IOP Publishing Ltd, 2017, UNSP 012021  crossref  isi
    3. A. R. Ibragimov, T. A. Ilinkova, L. N. Shafigullin, A. I. Saifutdinov, VIII All-Russian (With International Participation) Conference on Low Temperature Plasma in the Processes of Functional Coating Preparation, Journal of Physics Conference Series, 789, IOP Publishing Ltd, 2017, UNSP 012022  crossref  isi
    4. K. G. Sadikov, A. O. Sofronitskiy, I. G. Dautov, VIII All-Russian (With International Participation) Conference on Low Temperature Plasma in the Processes of Functional Coating Preparation, Journal of Physics Conference Series, 789, IOP Publishing Ltd, 2017, UNSP 012043  crossref  isi
    5. S. N. Sharifullin, A. S. Pirogova, VIII All-Russian (With International Participation) Conference on Low Temperature Plasma in the Processes of Functional Coating Preparation, Journal of Physics Conference Series, 789, IOP Publishing Ltd, 2017, UNSP 012051  crossref  isi
    6. N. A. Smolanov, VIII All-Russian (With International Participation) Conference on Low Temperature Plasma in the Processes of Functional Coating Preparation, Journal of Physics Conference Series, 789, IOP Publishing Ltd, 2017, UNSP 012055  crossref  isi
    7. R. I. Valiey, Yu. I. Shakirov, A. A. Khafizov, R. A. Valiev, I. M. Nuriev, VIII All-Russian (With International Participation) Conference on Low Temperature Plasma in the Processes of Functional Coating Preparation, Journal of Physics Conference Series, 789, IOP Publishing Ltd, 2017, UNSP 012067  crossref  isi
    8. R. F. Yunusov, VIII All-Russian (With International Participation) Conference on Low Temperature Plasma in the Processes of Functional Coating Preparation, Journal of Physics Conference Series, 789, IOP Publishing Ltd, 2017, UNSP 012069  crossref  isi
    9. Baeva M., Loffhagen D., Becker M.M., Uhrlandt D., Plasma Chem. Plasma Process., 39:4 (2019), 949–968  crossref  isi
  • Письма в Журнал экспериментальной и теоретической физики Pis'ma v Zhurnal Иksperimental'noi i Teoreticheskoi Fiziki
    Просмотров:
    Эта страница:166
    Полный текст:10
    Литература:17
    Первая стр.:16
     
    Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2020