RUS  ENG ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Импакт-фактор
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Квантовая электроника:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Квантовая электроника, 2016, том 46, номер 1, страницы 81–87 (Mi qe16303)  

Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)

Источники для ЭУФ литографии

Источник ЭУФ лазерно-индуцированного излучения высокой яркости на основе оловянной плазмы с неограниченным ресурсом электродов

А. Ю. Виноходовa, В. М. Кривцунba, А. А. Лашa, В. М. Борисовc, О. Ф. Якушевda, К. Н. Кошелевba

a ООО "ЭУФ Лабс", г. Троицк, г. Москва
b Институт спектроскопии РАН, г. Троицк
c Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований
d Физический институт им. П. Н. Лебедева РАН, г. Москва

Аннотация: Исследованы характеристики источника лазерно-индуцированного излучения экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) диапазона, которое получено в разряде между двумя струями жидкого олова, и продемонстрирована возможность создания на его основе источника ЭУФ излучения высокой яркости для использования в технологиях инспекции масок для проекционной ЭУФ литографии. Получена средняя эффективность конверсии электрической энергии в излучение спектрального диапазона 13.5±0.135 нм, равная примерно 2%/2π ср, с размером излучающей плазмы 0.2×0.35 мм. Продемонстрирована возможность создания источника ЭУФ излучения с яркостью около 200 Вт/(мм2·ср).

Ключевые слова: источник излучения ЭУФ диапазона, ЭУФ литография, плазма, разряд, лазер, струя жидкого олова, яркость источника.
Автор для корреспонденции

Полный текст: PDF файл (1730 kB)
Список литературы: PDF файл   HTML файл

Англоязычная версия:
Quantum Electronics, 2016, 46:1, 81–87

Реферативные базы данных:

Тип публикации: Статья
Поступила в редакцию: 19.08.2014

Образец цитирования: А. Ю. Виноходов, В. М. Кривцун, А. А. Лаш, В. М. Борисов, О. Ф. Якушев, К. Н. Кошелев, “Источник ЭУФ лазерно-индуцированного излучения высокой яркости на основе оловянной плазмы с неограниченным ресурсом электродов”, Квантовая электроника, 46:1 (2016), 81–87 [Quantum Electron., 46:1 (2016), 81–87]

Образцы ссылок на эту страницу:
  • http://mi.mathnet.ru/qe16303
  • http://mi.mathnet.ru/rus/qe/v46/i1/p81

    ОТПРАВИТЬ: VKontakte.ru FaceBook Twitter Mail.ru Livejournal Memori.ru


    Citing articles on Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles on Google Scholar: Russian articles, English articles

    Эта публикация цитируется в следующих статьяx:
    1. Yakushev O.F., Vinokhodov A.Y., Koshelev K.N., Krivtsun V.N., Instruments and experiments techniques, 58:6 (2015), 820–824  crossref  mathscinet  isi  scopus
    2. А. Ю. Виноходов, М. С. Кривокорытов, Ю. В. Сидельников, В. М. Кривцун, В. В. Медведев, К. Н. Кошелев, Квантовая электроника, 46:5 (2016), 473–480  mathnet  elib; Quantum Electron., 46:5 (2016), 473–480  crossref  isi
    3. V. Sizyuk, T. Sizyuk, A. Hassanein, K. Johnson, J. Appl. Phys., 123:1 (2018), 013302  crossref  isi
    4. I. V. Romanov, A. A. Kologrivov, V. L. Paperny, A. A. Rupasov, A. N. Starodub, Plasma Phys. Control. Fusion, 60:2 (2018), 025004  crossref  isi
    5. Xu Q., Tian H., Zhao Y., Wang Q., Symmetry-Basel, 11:5 (2019), 658  crossref  isi
  • Квантовая электроника Quantum Electronics
    Просмотров:
    Эта страница:180
    Полный текст:39
    Литература:19
    Первая стр.:59
     
    Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2020