|
Квантовая электроника, 1981, том 8, номер 5, страницы 1073–1078
(Mi qe6944)
|
|
|
|
Влияние адгезии на процессы лазерного нагревания и разрушения тонких поглощающих пленок
Е. Б. Яковлев Ленинградский институт точной механики и оптики
Аннотация:
Предложен феноменологический подход к учету влияния адгезии на темп нагревания тонких пленок при лазерном облучении. Показано, что величина адгезии определяет механизм разрушения тонких пленок в режиме порога развитого разрушения (ПРР). Определены условия, при которых механизм разрушения тонких пленок скатыванием
расплава является основным в режиме ПРР.
Полный текст:
PDF файл (982 kB)
Англоязычная версия:
Soviet Journal of Quantum Electronics, 1981, 11:5, 637–640
Реферативные базы данных:
Тип публикации:
Статья
УДК:
539.216.22
PACS:
61.80.-x, 68.60.+q, 42.60.He Поступила в редакцию: 24.09.1980
Образец цитирования:
Е. Б. Яковлев, “Влияние адгезии на процессы лазерного нагревания и разрушения тонких поглощающих пленок”, Квантовая электроника, 8:5 (1981), 1073–1078 [Sov J Quantum Electron, 11:5 (1981), 637–640]
Образцы ссылок на эту страницу:
http://mi.mathnet.ru/qe6944 http://mi.mathnet.ru/rus/qe/v8/i5/p1073
Citing articles on Google Scholar:
Russian citations,
English citations
Related articles on Google Scholar:
Russian articles,
English articles
|
Просмотров: |
Эта страница: | 94 | Полный текст: | 55 |
|