|
Сегнетоэлектричество
Формирование и исследование структур металл–диэлектрик–полупроводник на основе пленок оксида гафния
М. С. Афанасьев, Д. А. Белорусов, Д. А. Киселев, В. А. Лузанов, Г. В. Чучева Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН, Фрязино, Россия
Аннотация:
Пленки оксида гафния (HfO$_2$) синтезированы на кремниевую подложку методом магнетронного распыления мишени аналогичного состава. Представлены результаты исследований структурного состава пленок HfO$_2$ и электрофизических свойств структур металл-диэлектрик-полупроводник (Ni-HfO$_2$-$n$-Si).
Ключевые слова:
структуры металл–диэлектрик–полупроводник, сегнетоэлектрические пленки оксида гафния, пьезоэлектрический отклик, микроструктура, электрофизические свойства.
Поступила в редакцию: 18.12.2022 Исправленный вариант: 18.12.2022 Принята в печать: 24.01.2023
Образец цитирования:
М. С. Афанасьев, Д. А. Белорусов, Д. А. Киселев, В. А. Лузанов, Г. В. Чучева, “Формирование и исследование структур металл–диэлектрик–полупроводник на основе пленок оксида гафния”, Физика твердого тела, 65:4 (2023), 572–576
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/ftt10638 https://www.mathnet.ru/rus/ftt/v65/i4/p572
|
| Статистика просмотров: |
| Страница аннотации: | 197 | | PDF полного текста: | 94 | | Список литературы: | 1 |
|