|
Журнал технической физики, 1986, том 56, выпуск 5, страницы 850–855
(Mi jtf174)
|
|
|
|
Плазма
Прилипательно-колебательная неустойчивость
А. В. Елецкий
Аннотация:
Рассмотрено влияние зависимости константы скорости
диссоциативного прилипания электрона к молекуле от степени ее
колебательного возбуждения на устойчивость разряда высокого давления. При
положительной зависимости указанное влияние проявляется в периодических
осцилляциях локальных значений плотности электронов в разряде. Экспериментально
подобные осцилляции наблюдались при возбуждении эксимерного лазера на ХеСl.
Отрицательная зависимость приводит к экспоненциальному нарастанию плотности
электронов в разряде. На основании простой модели найдены условия возникновения
неустойчивости, а также значения периода осцилляции и инкремента нарастания
плотности электронов. Исследовано влияние объемной рекомбинации на характер
проявления рассмотренных механизмов нарушения стационарного режима
горения разряда.
Поступила в редакцию: 11.05.1985 Исправленный вариант: 11.07.1985
Образец цитирования:
А. В. Елецкий, “Прилипательно-колебательная неустойчивость”, ЖТФ, 56:5 (1986), 850–855
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf174 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v56/i5/p850
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 62 | PDF полного текста: | 25 |
|