Электродиффузионные методы создания Cs$^{+}$-волноводных структур в стекле

Подробно исследуется проблема создания планарных электродиффузионных Cs$^{+}$ волноводов и влияние различных способов электродиффузии на профиль показателя преломления (ППП). Для повышения однородности Cs$^{+}$ волноводов предложена предварительная чистка поверхности слоя подложки ионами Na$^{+}$ электродиффузией в расплаве NaNO$_{3}$. Установлено, что диффузия ионов Na$^{+}$ полностью подавляет диффузию ионов Cs$^{+}$ из расплава смеси NaNO$_{3}$ и CsNO$_{3}$. Для понижения приращения показателя преломления предлагается отжиг Cs$^{+}$ волноводов или комбинация процессов отжига и электрозаглубления в расплаве смеси NaNO$_{3}$ и CsNO$_{3}$. Предложен новый метод — импульсная электродиффузия (ИЭД), позволяющий эффективно заглублять Cs$^{+}$ волноводы при низких температурах в различных расплавах. Приведены непосредственно измеренные с высокой точностью ППП ИЭД заглубленных в расплавах NaNO$_{3}$ и KNO$_{3}$ Cs$^{+}$ волноводов.