|
Физическая электроника
Вероятность ионизации атомов, распыленных при бомбардировке поверхности металлов одно- и многозарядными ионами
С. Ф. Белыхa, А. Д. Беккерманb a Московский авиационный институт (национальный исследовательский университет), 125993 Москва, Россия
b Schulich Faculty of Chemistry, Technion — Israel Institute of Technology,
32000 Haifa, Israel
Аннотация:
Исследованы процессы ионизации атомов, распыленных при бомбардировке чистой поверхности металлов одно- и многозарядными ионами с одинаковой кинетической энергией порядка нескольких keV. В рамках феноменологической модели образования атомных ионов, учитывающей релаксацию локального возбуждения электронов в металле, получены аналитические формулы для расчета вероятности ионизации распыленных атомов. Показано, что по сравнению с однозарядными ионами бомбардировка металла многозарядными ионами приводит к существенному росту вероятности ионизации распыленных атомов за счет более эффективного возбуждения электронов и увеличения времени релаксации этого возбуждения.
Ключевые слова:
ионное распыление, вероятность ионизации, многозарядные ионы, распыленные атомы, оже-электроны, каскады столкновений, масс-спектрометрия вторичных ионов.
Поступила в редакцию: 17.07.2021 Исправленный вариант: 27.09.2021 Принята в печать: 12.10.2021
Образец цитирования:
С. Ф. Белых, А. Д. Беккерман, “Вероятность ионизации атомов, распыленных при бомбардировке поверхности металлов одно- и многозарядными ионами”, ЖТФ, 92:2 (2022), 315–320
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf7301 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v92/i2/p315
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 38 | PDF полного текста: | 13 |
|