Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Журнал технической физики, 2015, том 85, выпуск 9, страницы 56–61 (Mi jtf7878)  
Эта публикация цитируется в 8 научных статьях (всего в 8 статьях)

Плазма

Условия равномерного воздействия на анод плазмы импульсного диффузного разряда, формируемого за счет убегающих электронов

М. В. Ерофеевab, Е. Х. Бакштa, А. Г. Бураченкоa, В. Ф. Тарасенкоab

a Институт сильноточной электроники СО РАН, 634055 Томск, Россия
b Национальный исследовательский Томский политехнический университет, 634050 Томск, Россия
PDF полного текста (1155 kB) Список цитирования (8) Английская версия
Аннотация: Исследована пространственная структура объемного (диффузного) разряда в сильно неоднородном электрическом поле при наносекундных длительностях импульсов напряжения и атмосферном давлении воздуха, а также воздействие плазмы данного разряда на поверхность плоского алюминиевого анода. Показано, что диффузный разряд при наносекундной длительности импульса напряжения генератора позволяет в воздухе атмосферного давления проводить однородную обработку поверхности анода в отличие от искрового разряда, приводящего к ухудшению рельефа поверхности за счет образования на ней микрократеров и зон с измененными свойствами.
Поступила в редакцию: 29.01.2015
Английская версия:
Technical Physics, 2015, Volume 60, Issue 9, Pages 1316–1320
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063784215090066
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: М. В. Ерофеев, Е. Х. Бакшт, А. Г. Бураченко, В. Ф. Тарасенко, “Условия равномерного воздействия на анод плазмы импульсного диффузного разряда, формируемого за счет убегающих электронов”, ЖТФ, 85:9 (2015), 56–61; Tech. Phys., 60:9 (2015), 1316–1320
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{EroBakBur15}
\by М.~В.~Ерофеев, Е.~Х.~Бакшт, А.~Г.~Бураченко, В.~Ф.~Тарасенко
\paper Условия равномерного воздействия на анод плазмы импульсного диффузного разряда, формируемого за счет убегающих электронов
\jour ЖТФ
\yr 2015
\vol 85
\issue 9
\pages 56--61
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf7878}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=24196186}
\transl
\jour Tech. Phys.
\yr 2015
\vol 60
\issue 9
\pages 1316--1320
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063784215090066}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf7878
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v85/i9/p56
    • Эта публикация цитируется в следующих 8 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Журнал технической физики Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:43
    PDF полного текста:17
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2026