|
|
Журнал технической физики, 2013, том 83, выпуск 2, страницы 97–102
(Mi jtf8358)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)
Твердотельная электроника
Синтез углеродных пленок в плазмохимическом реакторе на базе пучково-плазменного разряда
Е. Г. Шустин, Н. В. Исаев, И. Л. Клыков, В. В. Песков, В. И. Поляков, А. И. Руковишников, М. П. Темирязева Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН
Аннотация:
Разработана модификация плазмохимического реактора на основе пучково-плазменного разряда для осаждения углеродных, в том числе алмазоподобных (DLC) пленок, отличающаяся от известных методов простотой управления энергетическими характеристиками ионного потока, воздействующего на пленку в процессе осаждения. Описана техника компьютерного моделирования характеристик ионного потока на электроизолированную поверхность в режиме модуляции потенциала плазмы, позволяющая прогнозировать энергию и поток ионов, воздействующих на осаждаемую пленку. Получены образцы DLC-пленок на металлических подложках. Методом зарядовой релаксационной спектроскопии выявлен эффект влияния адсорбированных паров воды и спирта на электрофизические свойства пленок, что свидетельствует о возможности использования полученных пленок в качестве активного адсорбирующего материала для химических сенсоров.
Поступила в редакцию: 28.02.2012
Образец цитирования:
Е. Г. Шустин, Н. В. Исаев, И. Л. Клыков, В. В. Песков, В. И. Поляков, А. И. Руковишников, М. П. Темирязева, “Синтез углеродных пленок в плазмохимическом реакторе на базе пучково-плазменного разряда”, ЖТФ, 83:2 (2013), 97–102; Tech. Phys., 58:2 (2013), 245–250
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf8358 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v83/i2/p97
|
| Статистика просмотров: |
| Страница аннотации: | 159 | | PDF полного текста: | 114 |
|