|
Физика и техника полупроводников, 1988, том 22, выпуск 2, страницы 298–300
(Mi phts2723)
|
|
|
|
Электрические характеристики эпитаксиальных
$p^{+}{-}n{-}n^{+}$-структур на основе карбида кремния политипа $6H$
М. М. Аникин, А. А. Лебедев, И. В. Попов, В. П. Растегаев, А. М. Стрельчук, А. Л. Сыркин, Ю. М. Таиров, В. Ф. Цветков, В. Е. Челноков
Аннотация:
Изготовлены эпитаксиальные $p^{+}{-}n{-}n^{+}$-структуры на основе
карбида кремния политипа $6H$ с напряжением пробоя свыше 300 В
и на прямые токи ${\sim1}$ А (${j\sim 200\,\text{А/см}^{2}}$) при
напряжениях ${\sim4}$ В, работоспособные до температур
${\sim800}$ K. Обратные токи при температуре 720 K
и напряжении ${\sim300}$ В составляют ${\sim10^{-6}}$ А. Эффективное время жизни неосновных носителей в слое объемного
заряда при высоких температурах в предположении модели Шокли–Нойса–Саа
составляет ${\sim10}$ нс.
Образец цитирования:
М. М. Аникин, А. А. Лебедев, И. В. Попов, В. П. Растегаев, А. М. Стрельчук, А. Л. Сыркин, Ю. М. Таиров, В. Ф. Цветков, В. Е. Челноков, “Электрические характеристики эпитаксиальных
$p^{+}{-}n{-}n^{+}$-структур на основе карбида кремния политипа $6H$”, Физика и техника полупроводников, 22:2 (1988), 298–300
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts2723 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v22/i2/p298
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 89 | PDF полного текста: | 41 |
|