|
Физика и техника полупроводников, 1991, том 25, выпуск 8, страницы 1355–1360
(Mi phts4398)
|
|
|
|
Совместная имплантация в полуизолирующий арсенид галлия электрически
активной и изовалентной примесей
В. С. Абрамов, И. П. Акимченко, В. А. Дравин, Н. Н. Дымова, В. В. Краснопевцев, В. В. Чалдышев, Ю. В. Шмарцев
Аннотация:
Исследованы свойства слоев, полученных
имплантацией ионов Si, P, Ar, Se, Ga, Kr
и их комбинациями Si + P, Si + Ar, Se + Ga,
Se + Kr в подложки полуизолирующего GaAs : Cr.
Показано, что совместная имплантация изовалентной (P, Ga)
и донорной (Si, Se) примесей
позволяет повысить концентрацию
и подвижность электронов в слое. Обсуждаются
вероятные причины этого явления.
Образец цитирования:
В. С. Абрамов, И. П. Акимченко, В. А. Дравин, Н. Н. Дымова, В. В. Краснопевцев, В. В. Чалдышев, Ю. В. Шмарцев, “Совместная имплантация в полуизолирующий арсенид галлия электрически
активной и изовалентной примесей”, Физика и техника полупроводников, 25:8 (1991), 1355–1360
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts4398 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v25/i8/p1355
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 72 | PDF полного текста: | 67 |
|