|
Физика и техника полупроводников, 1986, том 20, выпуск 12, страницы 2140–2144
(Mi phts489)
|
|
|
|
Электрические и фотоэлектрические свойства лазерно-имплантированных
структур
В. И. Фистуль, А. М. Павлов, А. П. Агеев, А. Ш. Аронов
Аннотация:
Исследованы вольтамперные и вольтъемкостные характеристики
лазерно-имплантированных структур, полученных при различных значениях
падающей мощности лазерного излучения. Установлено, что каждому
значению мощности соответствует определенное число импульсов ОКГ,
формирующее наилучшие характеристики структуры. Показано, что для достижения
лучших ВАХ приконтактная область структуры не должна доводиться до плавления.
Такие структуры обладают и наилучшими фотоэлектрическими параметрами —
спектральной и люксамперной характеристиками.
Образец цитирования:
В. И. Фистуль, А. М. Павлов, А. П. Агеев, А. Ш. Аронов, “Электрические и фотоэлектрические свойства лазерно-имплантированных
структур”, Физика и техника полупроводников, 20:12 (1986), 2140–2144
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts489 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v20/i12/p2140
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 64 | PDF полного текста: | 28 |
|