|
|
Физика и техника полупроводников, 2015, том 49, выпуск 2, страницы 145–148
(Mi phts7201)
|
|
|
|
XVIII симпозиум "Нанофизика и наноэлектроника" , Нижний Новгород, 10-14 марта 2014 г.
Влияние пространственного расположения $\delta$-слоя Si на оптоэлектронные свойства гетеронаноструктур с квантовой ямой InGaAs/GaAs
Н. С. Волковаa, А. П. Горшковa, С. В. Тиховa, Н. В. Байдусьb, С. В. Хазановаa, В. Е. Дегтяревa, Д. О. Филатовb a Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
b Научно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, г. Нижний Новгород
Аннотация:
Исследованы спектры фоточувствительности, фотолюминесценции и электролюминесценции диодных гетеронаноструктур InGaAs/GaAs с $\delta$-слоем Si, сформированным на расстоянии 10 нм от квантовой ямы InGaAs. Установлено влияние расположения $\delta$-слоя относительно квантовой ямы на оптоэлектронные свойства структур.
Поступила в редакцию: 23.05.2014 Принята в печать: 15.06.2014
Образец цитирования:
Н. С. Волкова, А. П. Горшков, С. В. Тихов, Н. В. Байдусь, С. В. Хазанова, В. Е. Дегтярев, Д. О. Филатов, “Влияние пространственного расположения $\delta$-слоя Si на оптоэлектронные свойства гетеронаноструктур с квантовой ямой InGaAs/GaAs”, Физика и техника полупроводников, 49:2 (2015), 145–148; Semiconductors, 49:2 (2015), 139–142
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts7201 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v49/i2/p145
|
| Статистика просмотров: |
| Страница аннотации: | 62 | | PDF полного текста: | 42 |
|