|
|
Физика и техника полупроводников, 2012, том 46, выпуск 2, страницы 145–149
(Mi phts8137)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 14 научных статьях (всего в 14 статьях)
Неэлектронные свойства полупроводников (атомная структура, диффузия)
Кинетика образования трещин в пористом кремнии
Д. С. Гаев, С. Ш. Рехвиашвили Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х. М. Бербекова, 360004 Нальчик, Россия
Аннотация:
Проведено экспериментальное и теоретическое исследование образования трещин в пористом кремнии, полученном электрохимическим способом. Обнаружено, что кинетика растрескивания пористого кремния описывается $s$-образным распределением Вейбулла. Данный факт, по-видимому, имеет неспецифический (общий) характер и может проявляться при образовании трещин в других твердых пористых материалах.
Поступила в редакцию: 05.07.2011 Принята в печать: 11.07.2011
Образец цитирования:
Д. С. Гаев, С. Ш. Рехвиашвили, “Кинетика образования трещин в пористом кремнии”, Физика и техника полупроводников, 46:2 (2012), 145–149; Semiconductors, 46:2 (2012), 137–140
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/phts8137 https://www.mathnet.ru/rus/phts/v46/i2/p145
|
| Статистика просмотров: |
| Страница аннотации: | 21 | | PDF полного текста: | 6 |
|