|
Письма в Журнал технической физики, 1990, том 16, выпуск 19, страницы 66–69
(Mi pjtf3480)
|
|
|
|
Стабильность свойств (состав, структура) пассивированной водородом
Si (001) поверхности в процессе предэпитаксиальной термообработки
В. Г. Антипов, Р. В. Каллион, С. А. Никишин, Д. В. Синявский
Образец цитирования:
В. Г. Антипов, Р. В. Каллион, С. А. Никишин, Д. В. Синявский, “Стабильность свойств (состав, структура) пассивированной водородом
Si (001) поверхности в процессе предэпитаксиальной термообработки”, Письма в ЖТФ, 16:19 (1990), 66–69
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf3480 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v16/i19/p66
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 44 | PDF полного текста: | 19 |
|