|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Влияние конструкции метаморфного буферного слоя на сохраняемость параметров метаморфного транзистора InGaAs/GaAs с высокой подвижностью электронов
Е. В. Никитинаab, А. А. Лазаренкоa, Е. В. Пироговa, М. С. Соболевa, Т. Н. Березовскаяa a Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский научный центр РАН
Аннотация:
Исследуется влияние конструкции метаморфного буферного слоя на изменения с течением времени электрофизических характеристик метаморфных транзисторов InGaAs/GaAs с высокой подвижностью электронов. С помощью Холловских измерений показано, что транзисторная гетероструктура с метаморфным буфером на основе сверхрешеток In(Al)GaAs/InAlAs обладает наибольшими значениями концентрации и подвижности электронов в канале и наименее подвержена деградации с течением времени.
Поступила в редакцию: 27.12.2016
Образец цитирования:
Е. В. Никитина, А. А. Лазаренко, Е. В. Пирогов, М. С. Соболев, Т. Н. Березовская, “Влияние конструкции метаморфного буферного слоя на сохраняемость параметров метаморфного транзистора InGaAs/GaAs с высокой подвижностью электронов”, Письма в ЖТФ, 43:18 (2017), 97–102; Tech. Phys. Lett., 43:9 (2017), 863–865
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6126 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v43/i18/p97
|
|