Письма в Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


Письма в ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Письма в Журнал технической физики, 2024, том 50, выпуск 2, страницы 40–43
DOI: https://doi.org/10.61011/PJTF.2024.02.56983.19736 (Mi pjtf6593) 		 
Моделирование процесса реактивного магнетронного распыления металлической (ванадиевой) мишени в высокомощном импульсном режиме

Д. А. Кудрявцева, А. Е. Комлев, А. Г. Алтынников, Р. А. Платонов, В. В. Карзин, А. А. Цымбалюк

Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
PDF полного текста (675 kB)
DOI: https://doi.org/10.61011/PJTF.2024.02.56983.19736
Аннотация: Представлена физико-химическая модель, описывающая процесс высокомощного импульсного реактивного магнетронного распыления металлической мишени. Повышение импульсной плотности мощности на мишени способствует ее разогреву, что приводит к увеличению эффективности распыления и возникновению потока испаренного вещества. Совокупность указанных эффектов приводит к увеличению скорости осаждения пленок сложных соединений. Приведены результаты моделирования процесса распыления ванадиевой мишени в среде Ar + O$_2$, продемонстрировавшие увеличение скорости распыления в 8.5 раз при увеличении плотности мощности от 0.5 до 1.5 kW/cm$^2$.
Ключевые слова: реактивное магнетронное распыление, HiPIMS, неизотермическая модель, диоксид ванадия.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский научный фонд 22-29-01607
Исследование выполнено при поддержке Российского научного фонда (грант № 22-29-01607).
Поступила в редакцию: 21.09.2023
Исправленный вариант: 25.10.2023
Принята в печать: 01.11.2023
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
УДК: 01.1;04.1;13.1
Образец цитирования: Д. А. Кудрявцева, А. Е. Комлев, А. Г. Алтынников, Р. А. Платонов, В. В. Карзин, А. А. Цымбалюк, “Моделирование процесса реактивного магнетронного распыления металлической (ванадиевой) мишени в высокомощном импульсном режиме”, Письма в ЖТФ, 50:2 (2024), 40–43
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{KudKomAlt24}
\by Д.~А.~Кудрявцева, А.~Е.~Комлев, А.~Г.~Алтынников, Р.~А.~Платонов, В.~В.~Карзин, А.~А.~Цымбалюк
\paper Моделирование процесса реактивного магнетронного распыления металлической (ванадиевой) мишени в высокомощном импульсном режиме
\jour Письма в ЖТФ
\yr 2024
\vol 50
\issue 2
\pages 40--43
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/pjtf6593}
\crossref{https://doi.org/10.61011/PJTF.2024.02.56983.19736}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=60020005}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf6593
  • https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v50/i2/p40
    • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Письма в Журнал технической физики Письма в Журнал технической физики
    Статистика просмотров:
    Страница аннотации:26
    PDF полного текста:13
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025