Влияние размера кристаллита на коэффициенты распыления вольфрама изотопами водорода и аргоном

С помощью разработанного нами кода впервые получены коэффициенты распыления $Y$ вольфрамовой мишени изотопами водорода и аргоном в диапазоне энергий бомбардирующих частиц 0.01–100 keV в зависимости от размера кристаллита и типа поверхностного потенциального барьера. Моделирование предсказывает, что при энергиях свыше 100 eV с ростом размера кристаллита наблюдается существенный рост коэффициента распыления, при этом основное изменение происходит при увеличении размера кристаллита от одной до двух постоянных решетки. Продемонстрировано сильное влияние выбора типа поверхностного барьера на результаты расчетов коэффициентов распыления. Полученные результаты необходимы для анализа поступления примеси вольфрама в горячую зону плазмы токамака.