|
|
Письма в Журнал технической физики, 2011, том 37, выпуск 13, страницы 62–69
(Mi pjtf9211)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 5 научных статьях (всего в 5 статьях)
Формирование нанокристаллов кремния в пленке SiN$_x$ на лавсане с применением фемтосекундных импульсных обработок
Т. Т. Корчагинаabcd, В. А. Володинabcd, А. А. Поповabcd, К. С. Хорьковabcd, М. Н. Геркеabcd a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный университет
c Ярославский филиал Федерального государственного бюджетного учреждения науки Физико-технологического института РАН
d Владимирский государственный университет
Аннотация:
Исследовано формирование нанокластеров Si в пленке SiN$_x$ с избыточным содержанием кремния под воздействием фемтосекундных лазерных импульсов. Пленка была выращена при температуре 100$^\circ$C с применением плазмо-химического осаждения на подложке из лавсана. Для импульсной кристаллизации использовался титан-сапфировый лазер с длиной волны излучения 800 nm и длительностью импульса 50 fs. По данным комбинационного рассеяния света получено, что импульсные отжиги стимулировали собирание избыточного кремния в нанокластеры и их кристаллизацию. Развитый подход может быть использован для формирования полупроводниковых нанокристаллов в диэлектрических пленках на подложках из пластика.
Поступила в редакцию: 05.03.2011
Образец цитирования:
Т. Т. Корчагина, В. А. Володин, А. А. Попов, К. С. Хорьков, М. Н. Герке, “Формирование нанокристаллов кремния в пленке SiN$_x$ на лавсане с применением фемтосекундных импульсных обработок”, Письма в ЖТФ, 37:13 (2011), 62–69; Tech. Phys. Lett., 37:7 (2011), 622–625
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf9211 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v37/i13/p62
|
| Статистика просмотров: |
| Страница аннотации: | 110 | | PDF полного текста: | 63 |
|