|
|
Письма в Журнал технической физики, 2010, том 36, выпуск 3, страницы 53–59
(Mi pjtf9412)
|
|
|
|
Исследование стабильности структуры пористого кремния, полученного травлением Si(100) в водном растворе фторида аммония, спектроскопическими методами
Е. О. Филатоваabc, К. М. Лысенковabc, А. А. Соколовabc, А. А. Овчинниковabc, Д. Е. Марченкоabc, В. М. Кашкаровabc, И. В. Назариковabc a Санкт-Петербургский государственный университет
b BESSY II, Helmholtz-Zentrum Berlin, 12489 Berlin, Germany
c Воронежский государственный университет
Аннотация:
Исследовался пористый кремний (por-Si), полученный электрохимическим травлением монокристаллического Si (100) в водном растворе фторида аммония с добавлением изопропилового спирта. Исследование проводилось методами рентгеновской спектроскопии отражения, рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии и квантового выхода внешнего рентгеновского фотоэффекта. Установлено, что por-Si, полученный по нетрадиционной методике (без использования плавиковой кислоты), является частично аморфизированным и имеет на поверхности стабильный во времени окисел, не превышающий по толщине 5 nm.
Поступила в редакцию: 14.07.2009
Образец цитирования:
Е. О. Филатова, К. М. Лысенков, А. А. Соколов, А. А. Овчинников, Д. Е. Марченко, В. М. Кашкаров, И. В. Назариков, “Исследование стабильности структуры пористого кремния, полученного травлением Si(100) в водном растворе фторида аммония, спектроскопическими методами”, Письма в ЖТФ, 36:3 (2010), 53–59; Tech. Phys. Lett., 36:2 (2010), 119–121
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/pjtf9412 https://www.mathnet.ru/rus/pjtf/v36/i3/p53
|
| Статистика просмотров: |
| Страница аннотации: | 83 | | PDF полного текста: | 128 |
|