Квантовая электроника
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Импакт-фактор
Правила для авторов
Загрузить рукопись

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Квантовая электроника:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Квантовая электроника, 1996, том 23, номер 8, страницы 719–724 (Mi qe759)  

Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Особенности нагрева плазмы коротковолновым излучением эксимерного лазера

А. Я. Фаеновa, А. И. Магуновa, Т. А. Пикузa, И. Ю. Скобелевa, С. А. Пикузb, С. Боллантиc, П. Ди Лаззароc, Н. Лизиc, Ф. Флораc, Т. Летардиc, Л. Палладиноd, А. Реалеd, А. Скафатиe, А. Гриллиf, Д. Батаниg, А. Мауриg, А. Остерхельдh, В. Голдстейнh

a Центр данных по спектрам многозарядных ионов, п. Менделеево, Московская обл.
b Физический институт им. П. Н. Лебедева РАН, г. Москва
c ENEA Centro Ricerche di Frascati, Frascati (Roma), Italy
d University of L’Aquila, Italy
e Laboratorio di Fisica, Istituto Superiore di Sanita, Rome, Italy
f Instituto Nazionale di Fisica Nucleare, Frascati, Italy
g University of Milan, Italy
h Lawrence Livermore National Laboratory, USA
Аннотация: С помощью различных рентгеноспектральных методов исследована плазма, создаваемая при взаимодействии импульса излучения коротковолнового эксимерного лазера (12 нс, 0.308 мкм, 4·1012 Вт/см2) с плоскими мишенями. Сопоставление формы контуров и интенсивностей ряда наблюдаемых спектральных линий Н-, Не- и Li-подобных ионов натрия, магния и алюминия с результатами проведенных расчетов позволило определить пространственные распределения параметров лазерной плазмы вплоть до расстояний ~0.4 мм от поверхности мишени. Сравнение полученных результатов с результатами простой теоретической модели поглощения коротковолнового излучения в плазме показало, что поглощение коротковолнового нагревающего излучения в плазме (при рассмотренных интенсивностях излучения) осуществляется за счет обратного тормозного механизма в областях с плотностью электронов много меньше критической.
Поступила в редакцию: 01.01.1996
Англоязычная версия:
Quantum Electronics, 1996, Volume 26, Issue 8, Pages 700–705
DOI: https://doi.org/10.1070/QE1996v026n08ABEH000759
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
PACS: 52.50.Jm, 52.25.Jm, 52.70.La


Образец цитирования: А. Я. Фаенов, А. И. Магунов, Т. А. Пикуз, И. Ю. Скобелев, С. А. Пикуз, С. Болланти, П. Ди Лаззаро, Н. Лизи, Ф. Флора, Т. Летарди, Л. Палладино, А. Реале, А. Скафати, А. Грилли, Д. Батани, А. Маури, А. Остерхельд, В. Голдстейн, “Особенности нагрева плазмы коротковолновым излучением эксимерного лазера”, Квантовая электроника, 23:8 (1996), 719–724 [Quantum Electron., 26:8 (1996), 700–705]
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/qe759
  • https://www.mathnet.ru/rus/qe/v23/i8/p719
  • Эта публикация цитируется в следующих 1 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Квантовая электроника Quantum Electronics
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2024