|
Теплофизика высоких температур, 1982, том 20, выпуск 6, страницы 1044–1051
(Mi tvt6504)
|
|
|
|
Исследование плазмы
Исследование интегральных характеристик приэлектродных слоев в емкостном ВЧ-разряде среднего давления
Н. А. Яценко Институт проблем механики АН СССР
Аннотация:
В диапазоне давлений до десятков кПа экспериментально исследуются зависимость интегральных характеристик приэлектродных слоев пространственного заряда и величина плотности разрядного тока от давления
в неконтрагированной форме емкостного ВЧ-разряда, стационарно горящего в воздухе, гелии, $\mathrm{CO}_2$ в режиме нормальной плотности тока между плоскими охлаждаемыми электродами и удаленными стенками разрядной камеры. Установлено, что параметры пространственно однородной плазмы положительного столба такого типа разряда очень сильно зависят от структуры приэлектродных областей, которая может иметь качественно разную природу. Проанализирована роль диэлектрического покрытия электродов в емкостном ВЧ-разряде. Обсуждены возможности практического использования полученных результатов.
Поступила в редакцию: 23.10.1981
Образец цитирования:
Н. А. Яценко, “Исследование интегральных характеристик приэлектродных слоев в емкостном ВЧ-разряде среднего давления”, ТВТ, 20:6 (1982), 1044–1051; High Temperature, 20:6 (1982), 820–826
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/tvt6504 https://www.mathnet.ru/rus/tvt/v20/i6/p1044
|
Статистика просмотров: |
Страница аннотации: | 122 | PDF полного текста: | 75 |
|