|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
1988 |
1. |
Л. Н. Галль, Д. Н. Давыдов, П. Н. Дашук, А. Г. Кузьмин, “Масс-спектрометрическое изучение ионизации диэлектриков
в скользящем разряде”, Письма в ЖТФ, 14:12 (1988), 1132–1136 |
2. |
П. Н. Дашук, А. В. Ковтун, С. В. Лукашенко, Б. Н. Соколов, “Лазерно-плазменный метод получения ионов при довозбуждении факела
скользящим разрядом”, Письма в ЖТФ, 14:3 (1988), 214–219 |
|
1987 |
3. |
П. Н. Дашук, А. А. Кучинский, С. Л. Кулаков, Ю. В. Рыбин, В. А. Смирнов, “Использование мягкого рентгеновского излучения наносекундного
скользящего разряда в системах предыонизации”, ЖТФ, 57:1 (1987), 50–57 |
4. |
Е. П. Бельков, В. А. Бурцев, И. Я. Галлай, П. Н. Дашук, Г. Л. Спичкин, В. М. Фомин, “Электроразрядный $SF_6-H_2$-лазер со стабилизацией объемного разряда керамическими барьерами”, Письма в ЖТФ, 13:5 (1987), 278–281 |
|
1986 |
5. |
П. Н. Дашук, А. В. Ковтун, С. В. Лукашенко, Б. Н. Соколов, “Лазерный микроспектральный анализ с довозбуждением в плазме скользящего разряда”, Письма в ЖТФ, 12:23 (1986), 1415–1419 |
|
1985 |
6. |
П. Н. Дашук, С. Л. Кулаков, Ю. В. Рыбин, “Ионизация газа мягким рентгеновским излучением наносекундного скользящего разряда”, Письма в ЖТФ, 11:7 (1985), 438–442 |
|
1984 |
7. |
И. Я. Галлай, П. Н. Дашук, Б. А. Ротенберг, Г. Л. Спичкин, “Электрические характеристики полупроводниковой керамики BaTiO$_{3}$
в режиме стабилизации объемного разряда высокого давления в газе”, ЖТФ, 54:4 (1984), 783–789 |
|
1983 |
8. |
Г. И. Беляев, П. Н. Дашук, “Способы управления малоиндуктивными сильноточными разрядниками со
скользящим разрядом”, ЖТФ, 53:3 (1983), 466–468 |
9. |
П. Н. Дашук, В. А. Дементьев, М. Д. Ярышева, “Электрооптические исследования развития скользящего разряда
и формирования обратного лидера”, Письма в ЖТФ, 9:2 (1983), 89–94 |
|
1970 |
10. |
С. И. Андреев, О. Г. Байков, П. Н. Дашук, “Потери энергии из оптически тонкого слоя ксеноновой плазмы”, ТВТ, 8:5 (1970), 929–933 ; S. I. Andreev, O. G. Baikov, P. N. Dashuk, “Energy loss from an optically thin layer of xenon plasma”, High Temperature, 8:5 (1970), 877–880 |
|