|
|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru |
Цитирования |
|
2026 |
| 1. |
М. С. Афанасьев, Д. А. Белорусов, Е. И. Гольдман, Г. В. Чучева, А. В. Семченко, В. А. Пилипенко, “Высокочастотные вольт-фарадные характеристики структур металл–Ba$_{0.8}$Sr$_{0.2}$TiO$_3$–термический окисел–кремний”, Физика твердого тела, 68:3 (2026), 429–433 |
|
2025 |
| 2. |
М. С. Афанасьев, Д. А. Белорусов, Д. А. Киселев, В. А. Лузанов, Г. В. Чучева, “Надежность МДП-структур на основе пленок титаната бария стронция и оксида гафния”, Физика твердого тела, 67:10 (2025), 1928–1931 |
| 3. |
Д. А. Белорусов, Е. И. Гольдман, Г. В. Чучева, “О свойствах переходного слоя между кремниевой подложкой и сегнетоэлектрическим или high-k-диэлектрическим изолирующим промежутком”, Физика твердого тела, 67:5 (2025), 832–836 |
|
2023 |
| 4. |
М. С. Афанасьев, Д. А. Белорусов, Д. А. Киселев, Г. В. Чучева, “Влияние материала верхнего электрода на электрофизические свойства МДМ-структур на основе сегнетоэлектрических пленок”, Физика твердого тела, 65:6 (2023), 1060–1064 |
| 5. |
М. С. Афанасьев, Д. А. Белорусов, Д. А. Киселев, В. А. Лузанов, Г. В. Чучева, “Формирование и исследование структур металл–диэлектрик–полупроводник на основе пленок оксида гафния”, Физика твердого тела, 65:4 (2023), 572–576 |
|
2022 |
| 6. |
Д. А. Киселев, С. С. Старухина, Т. С. Ильина, Н. Ф. Кухарская, В. Г. Нарышкина, А. А. Сивов, Г. В. Чучева, “Влияние легирующей примеси на пьезоэлектрические и диэлектрические свойства тонких пленок Bi$_{3.25}$La$_{0.75}$Ti$_{3-x}$A$_x$O$_{12}$ ($A$ – Мn, Zr, Nb)”, Физика твердого тела, 64:10 (2022), 1483–1488 |
| 7. |
Д. А. Белорусов, Е. И. Гольдман, Г. В. Чучева, “Влияние сильного статического электрического поля и нагрева на характеристики высокочастотного импеданса структур металл–сегнетоэлектрик–полупроводник”, Физика твердого тела, 64:5 (2022), 556–559 |
| 8. |
Е. И. Гольдман, Г. В. Чучева, И. А. Шушарин, “Форма изолирующего потенциала, создаваемого сверхтонкими слоями окисла кремния”, Физика и техника полупроводников, 56:3 (2022), 328–334 |
2
|
|
2021 |
| 9. |
С. М. Афанасьев, Д. А. Белорусов, Д. А. Киселев, А. А. Сивов, Г. В. Чучева, “Влияние буферного слоя PZT на электрофизические свойства МДМ-структур с пленкой BST”, Физика твердого тела, 63:11 (2021), 1895–1900 |
| 10. |
Д. А. Белорусов, Е. И. Гольдман, Г. В. Чучева, “Слабое проявление эффекта поля в структурах металл–диэлектрик–полупроводник с сегнетоэлектрическим изолирующим слоем Ba$_{x}$Sr$_{1-x}$TiO$_{3}$”, Физика твердого тела, 63:11 (2021), 1887–1889 |
2
|
| 11. |
Д. А. Белорусов, Е. И. Гольдман, В. Г. Нарышкина, Г. В. Чучева, “Устойчивые к полевым повреждениям структуры кремний-сверхтонкий окисел (42 нм)-поликремний”, Физика и техника полупроводников, 55:1 (2021), 24–27 ; D. A. Belorusov, E. I. Goldman, V. G. Naryshkina, G. V. Chucheva, “Silicon ultrathin oxide (4.2 nm) – polysilicon structures resistant to field damages”, Semiconductors, 55:1 (2021), 21–24 |
5
|
|
2020 |
| 12. |
Е. И. Гольдман, В. Г. Нарышкина, Г. В. Чучева, “Исследования электрофизических свойств сегнетоэлектрических пленок Ba$_{0.8}$Sr$_{0.2}$TiO$_{3}$ в параэлектрическом состоянии”, Физика твердого тела, 62:8 (2020), 1226–1231 ; E. I. Goldman, V. G. Naryshkina, G. V. Chucheva, “Electrophysical properties investigation of Ba$_{0.8}$Sr$_{0.2}$TiO$_{3}$ ferroelectric films in paraelectric state”, Phys. Solid State, 62:8 (2020), 1380–1385 |
3
|
| 13. |
М. С. Афанасьев, Д. А. Киселев, С. А. Левашов, А. А. Сивов, Г. В. Чучева, “Создание и исследования структур металл–диэлектрик–полупроводник на основе сегнетоэлектрических пленок”, Физика твердого тела, 62:3 (2020), 422–426 ; M. S. Afanasiev, D. A. Kiselev, S. A. Levashov, A. A. Sivov, G. V. Chucheva, “Creation and investigation of metal–dielectric–semiconductor structures based on ferroelectric films”, Phys. Solid State, 62:3 (2020), 480–484 |
| 14. |
М. С. Афанасьев, Е. И. Гольдман, Г. В. Чучева, А. Э. Набиев, Дж. И. Гусейнов, Н. Ш. Алиев, “Электропроводность структур металл–диэлектрик–полупроводник на основе сегнетоэлектрических пленок”, Физика твердого тела, 62:1 (2020), 121–124 ; M. S. Afanasiev, E. I. Goldman, G. V. Chucheva, A. E. Nabiyev, J. И. Huseynov, N. Sh. Aliev, “Conductivity of metal–dielectric–semiconductor structures based on ferroelectric films”, Phys. Solid State, 62:1 (2020), 164–167 |
2
|
| 15. |
М. С. Афанасьев, Д. А. Белорусов, Д. А. Киселев, А. А. Сивов, Г. В. Чучева, “Зависимость электрофизических характеристик структур металл–сегнетоэлектрик–полупроводник от материала верхнего электрода”, Физика и техника полупроводников, 54:11 (2020), 1219–1223 ; M. S. Afanasiev, D. A. Belorusov, D. A. Kiselev, A. A. Sivov, G. V. Chucheva, “Dependence of the electrophysical characteristics of metal–ferroelectric–semiconductor structures on the field-electrode material”, Semiconductors, 54:11 (2020), 1445–1449 |
|
2019 |
| 16. |
М. С. Афанасьев, Д. А. Киселев, С. А. Левашов, А. А. Сивов, Г. В. Чучева, “Влияние температуры синтеза на микроструктуру и электрофизические свойства пленок BST 80/20”, Физика твердого тела, 61:10 (2019), 1948–1952 ; M. S. Afanasiev, D. A. Kiselev, S. A. Levashov, A. A. Sivov, G. V. Chucheva, “The effect of synthesis temperature on the microstructure and electrophysical properties of BST 80/20 films”, Phys. Solid State, 61:10 (2019), 1910–1914 |
4
|
| 17. |
Е. И. Гольдман, С. А. Левашов, Г. В. Чучева, “Особенности характеристик устойчивых к полевым повреждениям структур кремний–сверхтонкий окисел–поликремний”, Физика и техника полупроводников, 53:4 (2019), 481–484 ; E. I. Goldman, S. A. Levashov, G. V. Chucheva, “Features of the characteristics of field-resistant silicon–ultrathin oxide–polysilicon structures”, Semiconductors, 53:4 (2019), 465–468 |
7
|
| 18. |
Е. И. Гольдман, А. Э. Набиев, В. Г. Нарышкина, Г. В. Чучева, “О природе повышения подвижности электронов в канале инверсии у границы раздела кремний-окисел после полевого воздействия”, Физика и техника полупроводников, 53:1 (2019), 89–92 ; E. I. Goldman, A. E. Nabiyev, V. G. Naryshkina, G. V. Chucheva, “On the nature of the increase in the electron mobility in the inversion channel at the silicon–oxide interface after the field effect”, Semiconductors, 53:1 (2019), 85–88 |
1
|
| 19. |
Е. И. Гольдман, Н. Ф. Кухарская, С. А. Левашов, Г. В. Чучева, “Определение параметров структур металл–диэлектрик–полупроводник со сверхтонким изолирующим слоем из высокочастотных вольт-фарадных характеристик”, Физика и техника полупроводников, 53:1 (2019), 46–49 ; E. I. Goldman, N. F. Kuharskaya, S. A. Levashov, G. V. Chucheva, “Determination of the parameters of metal–insulator–semiconductor structures with ultrathin insulating layer from high-frequency capacitance–voltage measurements”, Semiconductors, 53:1 (2019), 42–45 |
6
|
|
2018 |
| 20. |
М. С. Афанасьев, Д. А. Киселев, С. А. Левашов, В. А. Лузанов, А. Э. Набиев, В. Г. Нарышкина, А. А. Сивов, Г. В. Чучева, “Влияние материала подложки на структуру и электрофизические свойства тонких пленок Ba$_{x}$Sr$_{1-x}$TiO$_{3}$”, Физика твердого тела, 60:5 (2018), 951–954 ; M. S. Afanasiev, D. A. Kiselev, S. A. Levashov, V. A. Luzanov, A. E. Nabiyev, V. G. Naryshkina, A. A. Sivov, G. V. Chucheva, “The influence of the substrate material on the structure and electrophysical properties of Ba$_{x}$Sr$_{1-x}$TiO$_{3}$ thin films”, Phys. Solid State, 60:5 (2018), 954–957 |
4
|
|
2017 |
| 21. |
Е. И. Гольдман, С. А. Левашов, В. Г. Нарышкина, Г. В. Чучева, “Генерация поверхностных электронных состояний на границе раздела кремний–сверхтонкий окисел в процессе полевого повреждения структур металл–окисел–полупроводник”, Физика и техника полупроводников, 51:9 (2017), 1185–1188 ; E. I. Goldman, S. A. Levashov, V. G. Naryshkina, G. V. Chucheva, “Generation of surface electron states with a silicon–ultrathin-oxide interface under the field-induced damage of metal–oxide–semiconductor structures”, Semiconductors, 51:9 (2017), 1136–1140 |
9
|
|
2015 |
| 22. |
М. С. Афанасьев, А. Э. Набиев, Г. В. Чучева, “Оптический мониторинг процесса осаждения сегнетоэлектрических пленок”, Физика твердого тела, 57:7 (2015), 1354–1357 ; M. S. Afanasiev, A. E. Nabiyev, G. V. Chucheva, “Optical monitoring of the deposition process of ferroelectric films”, Phys. Solid State, 57:7 (2015), 1377–1380 |
5
|
| 23. |
Д. А. Киселев, М. С. Афанасьев, С. А. Левашов, Г. В. Чучева, “Кинетика роста индуцированных доменов в сегнетоэлектрических тонких пленках Ba$_{0.8}$Sr$_{0.2}$TiO$_3$”, Физика твердого тела, 57:6 (2015), 1134–1137 ; D. A. Kiselev, M. S. Afanasiev, S. A. Levashov, G. V. Chucheva, “Growth kinetics of induced domains in Ba$_{0.8}$Sr$_{0.2}$TiO$_3$ ferroelectric thin films”, Phys. Solid State, 57:6 (2015), 1151–1154 |
13
|
| 24. |
Е. И. Гольдман, А. И. Левашова, С. А. Левашов, Г. В. Чучева, “Особенности высокочастотных измерений импеданса структур металл–диэлектрик–полупроводник со сверхтонким окислом”, Физика и техника полупроводников, 49:4 (2015), 483–488 ; E. I. Goldman, A. I. Levashova, S. A. Levashov, G. V. Chucheva, “Features of high-frequency measurements of the impedance of metal-insulator-semiconductor structures with an ultrathin oxide”, Semiconductors, 49:4 (2015), 472–478 |
8
|
|
2013 |
| 25. |
М. С. Афанасьев, С. А. Левашов, А. Ю. Митягин, Г. В. Чучева, А. Э. Набиев, “Расчёт теплофизических параметров и технология формирования МПЛ СВЧ диапазона”, Изв. Сарат. ун-та. Нов. cер. Сер. Физика, 13:1 (2013), 9–12 |
| 26. |
М. С. Афанасьев, А. Ю. Митягин, Г. В. Чучева, “Вольтфарадные характеристики МДП-структур на основе сегнетоэлектрических плёнок”, Изв. Сарат. ун-та. Нов. cер. Сер. Физика, 13:1 (2013), 7–9 |
|
2012 |
| 27. |
Г. В. Чучева, М. С. Афанасьев, И. А. Анисимов, А. И. Георгиева, С. А. Левашов, А. Э. Набиев, “Определение параметров планарных конденсаторов на основе тонкопленочных сегнетоэлектрических материалов”, Изв. Сарат. ун-та. Нов. cер. Сер. Физика, 12:2 (2012), 8–11 |
|
2011 |
| 28. |
Е. И. Гольдман, Н. Ф. Кухарская, В. Г. Нарышкина, Г. В. Чучева, “Проявление избыточных центров рождения электронно-дырочных пар, возникших в результате полевого и термического стрессов и их последующей аннигиляции, в динамических вольт-амперных характеристиках Si-МОП структур со сверхтонким окислом”, Физика и техника полупроводников, 45:7 (2011), 974–979 ; E. I. Goldman, N. F. Kuharskaya, V. G. Naryshkina, G. V. Chucheva, “Manifestation of excess centers of electron-hole pair generation resulting from field and thermal stresses and their subsequent annihilation in dynamic current-voltage characteristics of Si-MOS structures with ultrathin oxide”, Semiconductors, 45:7 (2011), 944–949 |
6
|
|
2010 |
| 29. |
Е. И. Гольдман, Ю. В. Гуляев, А. Г. Ждан, Г. В. Чучева, “Прямое туннелирование электронов в структурах Al–$n^+$-Si–SiO$_2$–$n$-Si в режиме нестационарного обеднения поверхности полупроводника основными носителями заряда”, Физика и техника полупроводников, 44:8 (2010), 1050–1052 ; E. I. Goldman, Yu. V. Gulyaev, A. G. Zhdan, G. V. Chucheva, “Direct tunneling of electrons in Al–$n^+$-Si–SiO$_2$–$n$-Si structures under conditions of nonstationary depletion of the semiconductor surface of the majority charge carriers”, Semiconductors, 44:8 (2010), 1016–1019 |
5
|
|
2009 |
| 30. |
А. Г. Ждан, В. Г. Нарышкина, Г. В. Чучева, “Автокоррекция характеристик полевых транзисторов в режиме спонтанной объемно-зарядовой ионной поляризации подзатворного окисла”, Физика и техника полупроводников, 43:5 (2009), 705–707 ; A. G. Zhdan, V. G. Naryshkina, G. V. Chucheva, “Self-correction of field-effect transistor characteristics in the mode of spontaneous space-charge ion polarization of gate oxide”, Semiconductors, 43:5 (2009), 677–679 |
3
|
|
2007 |
| 31. |
А. Г. Ждан, Н. Ф. Кухарская, В. Г. Нарышкина, Г. В. Чучева, “Реконструкция зависимостей туннельного тока от напряжения на окисле по динамическим вольт-амперным характеристикам гетероструктур $n^+$–Si-SiO$_2$–$n$-Si”, Физика и техника полупроводников, 41:9 (2007), 1135–1142 ; A. G. Zhdan, N. F. Kuharskaya, V. G. Naryshkina, G. V. Chucheva, “Reconstruction of dependences of the tunneling current on the oxide voltage using the dynamic current-voltage characteristics of the $n^+$–Si-SiO$_2$–$n$-Si heterostructures”, Semiconductors, 41:9 (2007), 1117–1125 |
2
|
| 32. |
Ю. В. Гуляев, А. Г. Ждан, Г. В. Чучева, “Увеличение подвижности электронов в инверсионном канале Si-МОП-транзистора при ионной поляризации подзатворного окисла”, Физика и техника полупроводников, 41:3 (2007), 368–371 ; Yu. V. Gulyaev, A. G. Zhdan, G. V. Chucheva, “Increase in the electron mobility in the inversion channel of a Si-MOS transistor in the case of ion polarization of the gate oxide”, Semiconductors, 41:3 (2007), 357–360 |
5
|
|
2006 |
| 33. |
А. Г. Ждан, Г. В. Чучева, Е. И. Гольдман, “Проявление туннельной проводимости тонкого подзатворного изолятора в кинетике генерации неосновных носителей заряда в структурах металл–диэлектрик–полупроводник”, Физика и техника полупроводников, 40:2 (2006), 195–201 ; A. G. Zhdan, G. V. Chucheva, E. I. Goldman, “A manifestation of the tunneling conductivity of a thin-gate insulator in the generation kinetics of minority carriers in metal–insulator–semiconductor structures”, Semiconductors, 40:2 (2006), 190–196 |
4
|
|
|
|
2017 |
| 34. |
Б. В. Хлопов, Г. В. Чучева, А. Б. Митягина, “Фазовые изменения мультиферроидных магнитных материалов, применяемых в системах внешней памяти”, Изв. Сарат. ун-та. Нов. cер. Сер. Физика, 17:1 (2017), 33–43 |
|