Электросопротивление лазерно-индуцированного графена, синтезированного непрерывным CO$_2$-лазером

Лазерно-индуцированный графен (ЛИГ) является новым перспективным материалом для широкого применения в электронике и медицине. В данной работе представлены результаты исследований по измерению его удельной электропроводности $\sigma$, поверхностного сопротивления $R_s$, а также контактного сопротивления $R_c$ и удельного контактного сопротивления $\rho_c$ медного электрода с пленочной структурой ЛИГ, синтезированной на поверхности полиимидной пленки методом пиролиза ее приповерхностного слоя при построчном сканировании сфокусированного пучка непрерывного углекислотного лазера. Установлено, что синтезированная пленочная структура ЛИГ обладает анизотропией электрического сопротивления, обусловленной построчным сканированием. Показано, что $\sigma$, $R_s$, $R_c$ и $\rho_c$ существенно зависят от плотности энергии $F$ падающего лазерного излучения. Измеренные значения $\sigma$, $R_s$ и $\rho_c$ при увеличении $F$ с 31 до 137 J/cm$^2$ варьировались в диапазонах 7.7 $\div$ 10 S/cm, 26 $\div$ 49 $\Omega/sq$ и 9 $\div$ 43 $\Omega$ $\cdot$ mm$^2$ соответственно.