Вариация состояния поверхности в ходе сканирования в низковольтном РЭМ и ее влияние на размеры рельефной структуры

Оценена вариация эмиссии медленных вторичных электронов из поверхности рельефных структур (выступов) в ходе длительного их сканирования в низковольтном растровом электронном микроскопе. Характер вариации зависит от участка профиля выступа, он особенно сложен вблизи углов рельефных структур. В результате искажаются соответствующие участки кривой видеосигнала от выступа, что приводит к увеличению или даже к уменьшению геометрических размеров этих участков. Вариация эмиссии объяснена наведением локальных зарядов в слое естественного окисла на поверхности кремния. Размер участков изменяется также из-за осаждения на поверхности выступа контаминационной пленки. Предположительно, ее осаждение зависит от наведенных зарядов на поверхности выступа и поэтому плохо воспроизводимо. Зафиксирован случай отсутствия контаминационного уширения выступа в результате длительного его сканирования.