Термическая устойчивость водородных кластеров на поверхности графена и Стоун–Уэльсовского графена

В рамках неортогональной модели сильной связи исследовалась возможность создания различных термически устойчивых элементов водородного рисунка на поверхности графена и Стоун–Уэльсовского графена – недавно предсказанного нового аллотропа графена. Численно исследована миграция атома водорода, адсорбированного на эти структуры. Энергия активации миграции атома водорода на поверхности графена ниже аналогичной энергии для Стоун–Уэльсовского графена, и данные величины равны, соответственно, 0.52 и 0.84 эВ. Исследована термическая устойчивость водородных кластеров, имеющих вид 6-и атомных колец на поверхности графена, а также 5, 6 и 7-и атомных колец на поверхности Стоун-Уэльсовского графена. Определены соответствующие энергии активации (они равны 1.61, 1.25, 1.36, и 1.27 эВ), а также частотные факторы термического распада в формуле Аррениуса. Даны оценки времен жизни этих кластеров при температурах замерзания и кипения воды.