|
|
Журнал технической физики, 1985, том 55, выпуск 11, страницы 2191–2195
(Mi jtf1531)
|
|
|
|
Исследование влияния тонких пленок SiO$_{x}$
(${0\leqslant x\leqslant 2}$)
на спектральные характеристики кремниевых $p{-}n$ переходов
Л. Е. Клячкин, Л. Б. Лопатина, А. М. Маляренко, В. Л. Суханов, Н. В. Забродская Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР, Ленинград
Аннотация:
Исследованы спектральные характеристики различных
типов кремниевых фотодиодов с одно- и двухслойными просветляющими покрытиями
из SiO$_{x}$. Показано, что в инфракрасном и видимом диапазонах длин волн
применение слоев SiO$_{x}$ в качестве просветляющего покрытия позволяет
удовлетворить критерию оптимальности просветления. В ультрафиолетовой
области наилучшим из рассмотренных является просветляющее покрытие из
SiO$_{x}$ (${x=2}$), имеющее наименьший коэффициент экстинкции
в рассматриваемом спектральном диапазоне.
Поступила в редакцию: 21.12.1984
Образец цитирования:
Л. Е. Клячкин, Л. Б. Лопатина, А. М. Маляренко, В. Л. Суханов, Н. В. Забродская, “Исследование влияния тонких пленок SiO$_{x}$
(${0\leqslant x\leqslant 2}$)
на спектральные характеристики кремниевых $p{-}n$ переходов”, ЖТФ, 55:11 (1985), 2191–2195
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf1531 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v55/i11/p2191
|
|