Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Журнал технической физики, 1991, том 61, выпуск 3, страницы 64–73 (Mi jtf4190)  

Газовый разряд, плазма

Приэлектродные слои в самостоятельном ВЧ разряде среднего и высокого давления

А. С. Смирнов, Л. Д. Цендин
Аннотация: На основании усредненного уравнения движения ионов анализируются приэлектродные слои самостоятельного ВЧ разряда при средних и высоких давлениях, когда движение заряженных частиц определяется их подвижностями, а энергия — локальным мгновенным значением электрического поля. Получены приближенные выражения для концентрации ионов и толщины слоя в $\alpha$- и $\gamma$-режимах горения разряда. Рассчитана вольт-амперная характеристика приэлектродных слоев в широком диапазоне плотностей тока. Полученные характеристики слоев сравниваются с результатами численных расчетов и имеющимися экспериментальными данными.
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: А. С. Смирнов, Л. Д. Цендин, “Приэлектродные слои в самостоятельном ВЧ разряде среднего и высокого давления”, ЖТФ, 61:3 (1991), 64–73
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{Tse91}
\by А.~С.~Смирнов, Л.~Д.~Цендин
\paper Приэлектродные слои в~самостоятельном ВЧ разряде среднего и~высокого
давления
\jour ЖТФ
\yr 1991
\vol 61
\issue 3
\pages 64--73
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf4190}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf4190
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v61/i3/p64
  • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Журнал технической физики Журнал технической физики
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025