|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
Физическое материаловедение
Исследование свойств филаментов в структурах на основе HfO$_2$ при помощи атомно-силовой микроскопии с измерением проводимости
А. Г. Исаевab, О. О. Пермяковаab, А. Е. Рогожинa a Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН, 117218 Москва, Россия
b Московский физико-технический институт (государственный университет), 141701 Долгопрудный, Московская обл., Россия
Аннотация:
Представлены результаты исследования переключения в структурах Pt/HfO$_2$/HfO$_x$N$_y$/TiN, Pt/HfO$_2$/TaO$_x$N$_y$/TiN и Pt/Al$_2$O$_3$/HfO$_2$/TaO$_x$N$_y$/TiN, в которых оксидные слои наносились атомно-слоевым осаждением. С помощью атомно-силовой микроскопии с измерением проводимости продемонстрировано образование проводящих филаментов во всех трех структурах. Также продемонстрирован полный цикл резистивного переключения в данных структурах зондом микроскопа. Изучены свойства филаментов, сформированных при различных электрических напряжениях между зондом и нижним электродом, представлены распределения чисел филаментов по проводимости и размеру. Произведено сравнение характеристик исследуемых структур. Показано, что структура Pt/Al$_2$O$_3$/HfO$_2$/TaO$_x$N$_y$/TiN имеет наибольший потенциал использования в резистивной памяти с произвольным доступом.
Ключевые слова:
мемристор, резистивное переключение, резистивная память с произвольным доступом, атомно-силовая микроскопия с измерением проводимости.
Поступила в редакцию: 18.01.2023 Исправленный вариант: 19.05.2023 Принята в печать: 16.06.2023
Образец цитирования:
А. Г. Исаев, О. О. Пермякова, А. Е. Рогожин, “Исследование свойств филаментов в структурах на основе HfO$_2$ при помощи атомно-силовой микроскопии с измерением проводимости”, ЖТФ, 93:8 (2023), 1143–1151
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf7059 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v93/i8/p1143
|
|