Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Журнал технической физики, 2022, том 92, выпуск 8, страницы 1192–1198
DOI: https://doi.org/10.21883/JTF.2022.08.52782.74-22
(Mi jtf7415)
 

Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)

XXVI Международный симпозиум " Нанофизика и наноэлектроника" , Н. Новгород, 14-17 марта 2022 г.
Фотоника

Оптимизация технологии изготовления дифракционных Si-решеток треугольного профиля для мягкого рентгеновского и экстремального ультрафиолетового излучения

Д. В. Моховa, Т. Н. Березовскаяa, К. Ю. Шубинаa, Е. В. Пироговa, А. В. Нащекинb, В. А. Шаровab, Л. И. Горайac

a Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет имени Ж. И. Алфёрова Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
c Институт аналитического приборостроения РАН, 190103 Санкт-Петербург, Россия
Аннотация: Жидкостным анизотропным травлением вицинальных пластин монокристаллического кремния (111)4$^\circ$ получены высокоэффективные дифракционные решетки с блеском, работающие в мягком рентгеновском и экстремальном ультрафиолетовом излучении. Представлена усовершенствованная экспериментальная технология изготовления Si-решеток треугольного профиля как среднечастотных (250 и 500 mm$^{-1}$), так и высокочастотной 2500 mm$^{-1}$. Оптимизированы стадии получения Cr-маски для травления канавок, удаления Si-выступов с целью сглаживания профиля, полирования поверхности для уменьшения наношероховатости. Описан способ получения сглаженного треугольного профиля Si-решетки и полированной поверхности штрихов путем жидкостного травления одновременно в одном процессе.
Ключевые слова: дифракционная решетка, жидкостное травление Si, треугольный профиль штрихов, АСМ, РЭМ.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский фонд фундаментальных исследований 20-02-00326
Российский научный фонд 19-12-00270-П
Работа поддержана Российским фондом фундаментальных исследований (РФФИ) (20-02-00326) в части экспериментальных исследований. Работа Л.И. Горая, А.С. Дашкова, Д.В. Мохова, Е.В. Пирогова и К.Ю. Шубиной поддержана Российским научным фондом (РНФ) (19-12-00270-П) в теоретической части.
Поступила в редакцию: 01.04.2022
Исправленный вариант: 01.04.2022
Принята в печать: 01.04.2022
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Д. В. Мохов, Т. Н. Березовская, К. Ю. Шубина, Е. В. Пирогов, А. В. Нащекин, В. А. Шаров, Л. И. Горай, “Оптимизация технологии изготовления дифракционных Si-решеток треугольного профиля для мягкого рентгеновского и экстремального ультрафиолетового излучения”, ЖТФ, 92:8 (2022), 1192–1198
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{MokBerShu22}
\by Д.~В.~Мохов, Т.~Н.~Березовская, К.~Ю.~Шубина, Е.~В.~Пирогов, А.~В.~Нащекин, В.~А.~Шаров, Л.~И.~Горай
\paper Оптимизация технологии изготовления дифракционных Si-решеток треугольного профиля для мягкого рентгеновского и экстремального ультрафиолетового излучения
\jour ЖТФ
\yr 2022
\vol 92
\issue 8
\pages 1192--1198
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf7415}
\crossref{https://doi.org/10.21883/JTF.2022.08.52782.74-22}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=48645855}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf7415
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v92/i8/p1192
  • Эта публикация цитируется в следующих 2 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Журнал технической физики Журнал технической физики
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025