|
Эта публикация цитируется в 1 научной статье (всего в 1 статье)
XXVI Международный симпозиум " Нанофизика и наноэлектроника" , Н. Новгород, 14-17 марта 2022 г.
Фотоника
Перспективные длины волн для проекционной литографии с использованием синхротронного излучения
Н. И. Чхало, В. Н. Полковников, Н. Н. Салащенко, Р. А. Шапошников Институт физики микроструктур РАН, 607680 Нижний Новгород, Россия
Аннотация:
Обсуждены перспективные длины волн для литографии следующего поколения на базе синхротронного источника рентгеновского излучения. Приведены теоретические и экспериментальные значения коэффициентов отражения многослойных рентгеновских зеркал, обеспечивающих максимальную отражательную способность в диапазоне 11.4–3.1 nm. Проведено сравнение теоретической эффективности многослойной оптики для различных длин волн.
Ключевые слова:
рентгеновская литография, многослойная рентгеновская оптика, многослойные рентгеновские зеркала.
Поступила в редакцию: 26.04.2022 Исправленный вариант: 26.04.2022 Принята в печать: 26.04.2022
Образец цитирования:
Н. И. Чхало, В. Н. Полковников, Н. Н. Салащенко, Р. А. Шапошников, “Перспективные длины волн для проекционной литографии с использованием синхротронного излучения”, ЖТФ, 92:8 (2022), 1207–1212
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf7418 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v92/i8/p1207
|
|