|
Теоретическая и математическая физика
Моделирование распределения температуры в зоне сублимационного роста графена на SiC подложке
С. П. Лебедев, С. Ю. Приображенский, А. В. Плотников, М. Г. Мынбаева, А. А. Лебедев Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
Аннотация:
Представлены результаты моделирования распределения температуры в зоне роста графеновых слоев методом термического разложения поверхности подложек карбида кремния в установке с индукционным нагревом. Расчеты параметров нагрева элементов установки выполнены с использованием коммерческого пакета COMSOL Multiphysics с учетом электрофизических, тепловых и магнитных свойств материалов, из которых изготовлены элементы ростовой установки. Приведена численная оценка неоднородности нагрева пластин карбида кремния по их площади во время роста графеновых слоев при заданной температуре. Показано, что латеральное распределение температуры по площади пластины имеет радиальную симметрию с уменьшением значений в направлении центра.
Ключевые слова:
графен, карбид кремния, моделирование, распределение температуры, сублимационный рост.
Поступила в редакцию: 03.07.2022 Исправленный вариант: 24.09.2022 Принята в печать: 03.10.2022
Образец цитирования:
С. П. Лебедев, С. Ю. Приображенский, А. В. Плотников, М. Г. Мынбаева, А. А. Лебедев, “Моделирование распределения температуры в зоне сублимационного роста графена на SiC подложке”, ЖТФ, 92:12 (2022), 1776–1780
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf7485 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v92/i12/p1776
|
|