Структурная релаксация стеклообразного GeSe$_2$ при изотермическом отжиге ниже и выше $T_g$

Методами рамановского рассеяния, рентгеновской дифракции и дифференциально-сканирующей калориметрии в температурном диапазоне 300–800 K установлено, что после изотермического отжига порошков стекла GeSe$_2$ ниже температуры размягчения $T_g$ = 635 $\pm$ 2 K фрагменты высокотемпературных полиморфных модификаций, не имеющие дальнего порядка (полиморфоиды HTPM), распадаются и трансформируются в полиморфоиды низкотемпературной модификации (LTPM) с экзотермическим эффектом. Высокая концентрация в стекле полиморфоидов LTPM и их стабилизация при отжиге ниже $T_g$ способствуют упорядочению и появлению областей когерентного рассеяния от низкотемпературной $\alpha$-GeSe$_2$ (3D-формы). При отжиге выше $T_g$ происходит обратная трансформация полиморфоидов LTPM $\to$ HTPM с эндотермическим эффектом, приводящая к доминированию в стеклообразном GeSe$_2$ полиморфоидов HTPM $\beta$-GeSe$_2$ (2D-формы), и их кристаллизация.