Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Журнал технической физики, 2015, том 85, выпуск 7, страницы 112–118 (Mi jtf7832)  

Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)

Электрофизика, электронные и ионные пучки, физика ускорителей

Моделирование морфологии поверхности при низкоэнергетическом ионном распылении

А. С. Шумилов, И. И. Амиров

Ярославский филиал Физико-технологического института РАН, 150007 Ярославль, Россия
Аннотация: Представлен новый двумерный метод моделирования морфологии поверхности материалов в процессах низкоэнергетического ионного распыления с учетом процесса переосаждения распыляемого материала. Проведено моделирование изменения профиля микроканавок в кремнии при распылении их ионами аргона низкой энергии плотной плазмы ВЧ индукционного разряда. Результаты численного моделирования находятся в хорошем согласии с экспериментом.
Поступила в редакцию: 29.11.2013
Англоязычная версия:
Technical Physics, 2015, Volume 60, Issue 7, Pages 1056–1062
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063784215070245
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: А. С. Шумилов, И. И. Амиров, “Моделирование морфологии поверхности при низкоэнергетическом ионном распылении”, ЖТФ, 85:7 (2015), 112–118; Tech. Phys., 60:7 (2015), 1056–1062
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{ShuAmi15}
\by А.~С.~Шумилов, И.~И.~Амиров
\paper Моделирование морфологии поверхности при низкоэнергетическом ионном распылении
\jour ЖТФ
\yr 2015
\vol 85
\issue 7
\pages 112--118
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf7832}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=24196140}
\transl
\jour Tech. Phys.
\yr 2015
\vol 60
\issue 7
\pages 1056--1062
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063784215070245}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf7832
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v85/i7/p112
  • Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Журнал технической физики Журнал технической физики
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025