|
|
Журнал технической физики, 2014, том 84, выпуск 1, страницы 79–85
(Mi jtf7985)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 2 научных статьях (всего в 2 статьях)
Твердотельная электроника
Исследование условий формирования массивов квантовых точек капельным методом в системе InAs/GaAs при МОС-гидридной эпитаксии
Р. Х. Акчуринa, Л. Б. Берлинерa, И. А. Богинскаяa, Е. Г. Гордеевa, Е. В. Егороваa, А. А. Мармалюкb, М. А. Ладугинb, М. А. Сурнинаa a Московский государственный университет тонких химических технологий им. М.В. Ломоносова, 119573 Москва, Россия
b ООО "Сигм Плюс", 117342 Москва, Россия
Аннотация:
Исследованы условия первого этапа формирования гетероструктур InAs/GaAs с массивами квантовых точек капельным методом. Проанализирован ряд факторов, влияющих на геометрические размеры и плотность массива наноразмерных индиевых капель, осаждаемых на подложку GaAs (100) в результате пиролиза триметилиндия, проведены экспериментальные исследования возможности использования этих факторов в условиях МОС-гидридной эпитаксии (МОСГЭ). С целью уточнения температурной зависимости скорости испарения In проведен вычислительный эксперимент с учетом условий МОСГЭ, приближенных к реальным. Произведена расчетная оценка предельного изменения состава капель In при высокотемпературном контакте с подложкой, а также оценены толщина и состав кристаллизующегося твердого раствора в системе In–Ga–As. Показана существенная роль кристаллохимического строения поверхности подложки и технологических условий процесса осаждения на размеры и плотность массива осаждаемых капель.
Поступила в редакцию: 09.01.2013
Образец цитирования:
Р. Х. Акчурин, Л. Б. Берлинер, И. А. Богинская, Е. Г. Гордеев, Е. В. Егорова, А. А. Мармалюк, М. А. Ладугин, М. А. Сурнина, “Исследование условий формирования массивов квантовых точек капельным методом в системе InAs/GaAs при МОС-гидридной эпитаксии”, ЖТФ, 84:1 (2014), 79–85; Tech. Phys., 59:1 (2014), 78–84
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf7985 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v84/i1/p79
|
|