Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS


ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти




Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация

Журнал технической физики, 2013, том 83, выпуск 1, страницы 80–83 (Mi jtf8330)  
Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)

Плазма

Влияние радиального профиля обратного плазменного тока на динамику резистивной шланговой неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося в плотной газоплазменной среде

А. С. Мануйловab

a Санкт-Петербургский государственный университет, математико-механический факультет
b Научно-исследовательский институт математики и механики им. акад. В. И. Смирнова Санкт-Петербургского государственного университета
PDF полного текста (128 kB) Список цитирования (4)
Аннотация: Исследована задача о влиянии обратного плазменного тока с характерным радиусом, отличным от соответствующего радиуса плотности тока релятивистского электронного пучка, на динамику резистивной шланговой неустойчивости пучка. Для указанного случая получены уравнения для линейной стадии развития неустойчивости. Показано, что в случае более широкого в радиальном направлении (по сравнению с пучком) обратного плазменного тока имеет место заметное ослабление резистивной шланговой неустойчивости.
Поступила в редакцию: 03.05.2012
Англоязычная версия:
Technical Physics, 2013, Volume 58, Issue 1, Pages 76–79
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063784213010180
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: А. С. Мануйлов, “Влияние радиального профиля обратного плазменного тока на динамику резистивной шланговой неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося в плотной газоплазменной среде”, ЖТФ, 83:1 (2013), 80–83; Tech. Phys., 58:1 (2013), 76–79
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{Man13}
\by А.~С.~Мануйлов
\paper Влияние радиального профиля обратного плазменного тока на динамику резистивной шланговой неустойчивости релятивистского электронного пучка, распространяющегося в плотной газоплазменной среде
\jour ЖТФ
\yr 2013
\vol 83
\issue 1
\pages 80--83
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf8330}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=20325778}
\transl
\jour Tech. Phys.
\yr 2013
\vol 58
\issue 1
\pages 76--79
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063784213010180}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf8330
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v83/i1/p80
    • Эта публикация цитируется в следующих 4 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    		Журнал технической физики Журнал технической физики
     
      Обратная связь:
    		  Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025