|
|
Журнал технической физики, 2013, том 83, выпуск 1, страницы 99–104
(Mi jtf8333)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 4 научных статьях (всего в 4 статьях)
Физическое материаловедение
Наносекундный импульсный отжиг кремния, имплантированного ионами магния
Н. Г. Галкинab, С. В. Вавановаa, К. Н. Галкинa, Р. И. Баталовc, Р. М. Баязитовc, В. И. Нуждинc a Институт автоматики и процессов управления ДВО РАН, г. Владивосток
b Дальневосточный федеральный университет,
690900 Владивосток, Россия
c Казанский физико-технический институт им. Е. К. Завойского, КазНЦ РАН
Аннотация:
Проведена имплантация ионов магния в монокристаллический кремний при комнатной температуре с последующим импульсным ионным отжигом. Изучены морфология поверхности, кристалличность и оптические свойства имплантированного кремния до и после импульсного отжига. Показано, что в результате ионной имплантации приповерхностная область кремния (до $\sim$ 0.1 $\mu$) становится аморфной. Наносекундный импульсный ионный отжиг приводит к рекристаллизации кремния и формированию кристаллических преципитатов силицида магния. Определены оптимальные условия (доза имплантации и плотность энергии импульса) для формирования преципитатов силицида магния в приповерхностном слое кремния.
Поступила в редакцию: 25.01.2012
Образец цитирования:
Н. Г. Галкин, С. В. Ваванова, К. Н. Галкин, Р. И. Баталов, Р. М. Баязитов, В. И. Нуждин, “Наносекундный импульсный отжиг кремния, имплантированного ионами магния”, ЖТФ, 83:1 (2013), 99–104; Tech. Phys., 58:1 (2013), 94–99
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf8333 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v83/i1/p99
|
|