|
|
Журнал технической физики, 2013, том 83, выпуск 4, страницы 41–46
(Mi jtf8403)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 9 научных статьях (всего в 9 статьях)
Плазма
Исследование особенностей формирования внеэлектродной плазмы высоковольтным газовым разрядом
В. А. Колпаковab, А. И. Колпаковa, В. В. Подлипновab a Самарский государственный аэрокосмический университет (национальный исследовательский университет),
443086 Самара, Россия
b Институт систем обработки изображений РАН,
443001 Самара, Россия
Аннотация:
Исследованы особенности формирования внеэлектродной плазмы высоковольтным газовым разрядом. Теоретически и экспериментально подтверждено возникновение и самоподдержание высоковольтного газового разряда и формируемых им потоков плазмы на прямолинейных участках силовых линий электрического поля. Показано, что фокусировка газового разряда и формируемых им плазменных потоков обеспечивается увеличением длины прямолинейного участка силовой линии в направлении оси симметрии отверстия в аноде. Установлено, что с повышением мощности разряда (ускоряющего напряжения, подаваемого на электроды газоразрядного прибора) происходит увеличение длины прямолинейных участков силовых линий поля и их сосредоточение в области оси симметрии отверстия в аноде. Даны практические рекомендации по применению внеэлектродной плазмы для микро- и наноразмерного структурирования поверхности материалов.
Поступила в редакцию: 21.03.2012 Принята в печать: 06.08.2012
Образец цитирования:
В. А. Колпаков, А. И. Колпаков, В. В. Подлипнов, “Исследование особенностей формирования внеэлектродной плазмы высоковольтным газовым разрядом”, ЖТФ, 83:4 (2013), 41–46; Tech. Phys., 58:4 (2013), 505–510
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf8403 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v83/i4/p41
|
|