|
|
Журнал технической физики, 2013, том 83, выпуск 6, страницы 51–59
(Mi jtf8456)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 10 научных статьях (всего в 10 статьях)
Физическая электроника
Новые процессы в поверхностной ионизации
М. В. Кнатько, М. Н. Лапушкин Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
Аннотация:
Приведены результаты исследований процессов, включающих поверхностную ионизацию. Обнаружено, что эти процессы не укладываются в классическую теорию поверхностной ионизации. Среди них процессы, включающие диффузионный обмен частицами между адсорбированным слоем и объемом эмиттера, каталитические процессы на поверхности эмиттера с участием отдельных центров, а также процессы, протекающие в адсорбированных слоях под действием освещения, электронного облучения и электрических полей. Рассмотрены результаты исследований поверхностной ионизации атомов щелочных металлов и органических молекул на поверхности интерметаллида золота (Na$_x$Au$_y$), существенно расширяющие представления о явлении.
Поступила в редакцию: 31.10.2012
Образец цитирования:
М. В. Кнатько, М. Н. Лапушкин, “Новые процессы в поверхностной ионизации”, ЖТФ, 83:6 (2013), 51–59; Tech. Phys., 58:6 (2013), 827–835
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf8456 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v83/i6/p51
|
|