Метод модифицирования структуры и элементного состава поверхности твердого тела в процессе высоковольтного вакуумного разряда

Разработан и экспериментально исследован новый метод модифицирования поверхности твердого тела, позволяющий эффективно и прецизионно модифицировать структуру и элементный состав поверхности. В основу метода положено воздействие плазмы импульсного высоковольтного вакуумного разряда, ионного пучка из плазмы и электронного пучка на твердотельную мишень. Эмиссионные и плазменные параметры реализуются при создании импульсного электрического поля в диодной системе, на которую подается импульсное напряжение амплитудой $\sim$ 10$^3$–10$^5$ V и длительностью $\sim$ 10$^{-9}$–10$^{-5}$ s.