|
|
Журнал технической физики, 2012, том 82, выпуск 5, страницы 115–119
(Mi jtf8827)
|
|
|
|
Поверхность, электронная и ионная эмиссия
Усиление электронно-стимулированной десорбции от аморфных пленок оксида алюминия на кремнии при повышении температуры подложки
М. В. Иванченкоab, В. А. Гриценкоc, А. В. Непомнящийa, А. А. Саранинab a Институт автоматики и процессов управления ДВО РАН, 690041 Владивосток, Россия
b Дальневосточный федеральный университет, 690950 Владивосток, Россия
c Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, 630090 Новосибирск, Россия
Аннотация:
Исследован эффект высокотемпературной электронно-стимулированной десорбции на пленках Al$_2$O$_3$ толщиной 20 nm, нанесенных на подложку кремния. Эффект электронно-стимулированной десорбции значительно усиливается при нагреве. Обнаружен эффект разрушения пленки до появления чистого Al электронным пучком при нагреве подложки, процесс сопровождается формированием островков, а также областей практически чистой поверхности кремния при достижении некоторой дозы облучения. Показано, что вне облученной области даже при нагреве до 700$^\circ$C и отжиге в течение 90 min пленка Al$_2$O$_3$ толщиной 20 nm остается сплошной. Исследовано влияние энергии пучка первичных электронов на эффект электронно-стимулированной десорбции от пленки Al$_2$O$_3$ толщиной 20 nm на кремнии и установлены параметры, при которых электронно-стимулированная десорбция происходит либо не наблюдается.
Поступила в редакцию: 05.08.2011
Образец цитирования:
М. В. Иванченко, В. А. Гриценко, А. В. Непомнящий, А. А. Саранин, “Усиление электронно-стимулированной десорбции от аморфных пленок оксида алюминия на кремнии при повышении температуры подложки”, ЖТФ, 82:5 (2012), 115–119; Tech. Phys., 57:5 (2012), 693–696
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf8827 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v82/i5/p115
|
|