|
|
Журнал технической физики, 2012, том 82, выпуск 7, страницы 107–111
(Mi jtf8880)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 16 научных статьях (всего в 16 статьях)
Поверхность, электронная и ионная эмиссия
Влияние уровня вакуума на автоэлектронную эмиссию из нанографитных пленок
Е. А. Васильева, В. И. Клещ, А. Н. Образцов Физический факультет, Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, 119991 Москва, Россия
Аннотация:
Представлены результаты экспериментального исследования влияния уровня вакуума на автоэлектронную эмиссию из нанографитных пленок, полученных по методу плазмохимического осаждения. Показано, что стабильная эмиссия электронов со значением порогового поля 1–2 V/$\mu$m при плотности тока 0.1 mA/cm$^2$ из нанографита наблюдается при давлении остаточных газов в измерительной камере менее 10$^{-5}$ Torr. При более высоком давлении имеет место постепенная деградация автоэмиссионных свойств пленок со временем. Последующая откачка камеры до давления 10$^{-5}$ Torr частично восстанавливает эмиссионные характеристики. Такое поведение нанографитных эмиттеров объясняется влиянием адсорбционно-десорбционных процессов (обратимая деградация эмиссии) и разрушением материала пленки вследствие бомбардировки ионами остаточных газов (необратимые изменения).
Поступила в редакцию: 04.10.2011
Образец цитирования:
Е. А. Васильева, В. И. Клещ, А. Н. Образцов, “Влияние уровня вакуума на автоэлектронную эмиссию из нанографитных пленок”, ЖТФ, 82:7 (2012), 107–111; Tech. Phys., 57:7 (2012), 1003–1007
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf8880 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v82/i7/p107
|
|