|
|
Журнал технической физики, 2011, том 81, выпуск 2, страницы 103–107
(Mi jtf9053)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 7 научных статьях (всего в 7 статьях)
Твердотельная электроника
Исследования фотопроводящих и фотодиэлектрических свойств гетероструктур из пленок поли-$N$-эпоксипропилкарбазола и MEH-PPV с добавкой октабутилфталоцианина цинка
Н. А. Давиденкоa, С. В. Дехтяренкоa, А. В. Козинецa, А. С. Лобачb, Е. В. Мокринскаяa, В. А. Скрышевскийa, Н. Г. Спицынаb, С. Л. Студзинскийa, О. В. Третякa, Л. С. Тонкопиеваa a Киевский национальный университет имени Тараса Шевченко, 01601 Киев, Украина
b Институт проблем химической физики РАН,
142432 Черноголовка, Московская область, Россия
Аннотация:
Получены гетероструктуры из пленок поли-$N$-эпоксипропилкарбазола и [2-метокси-5-(2'-этилгексилокси)-1,4-фенилен-винилена] с добавками 2,3,9,10,16,17,23,24-октабутилфталоцианина цинка. Исследованы фотопроводящие и фотодиэлектрические свойства гетероструктур в области поглощения металлокомплекса. Фоточувствительность исследованных образцов определяется триплетным состоянием фотогенерированных электронно-дырочных пар, их диссоциацией во внешнем электрическом поле и захватом носителей заряда на энергетические ловушки. Повышенная фоточувствительность гетероструктур по сравнению с монослоями пленок поясняется большей эффективностью диссоциации фотогенерированных электронно-дырочных пар и нивелированием ловушек для неравновесных носителей заряда на границах раздела пленок.
Поступила в редакцию: 17.03.2010
Образец цитирования:
Н. А. Давиденко, С. В. Дехтяренко, А. В. Козинец, А. С. Лобач, Е. В. Мокринская, В. А. Скрышевский, Н. Г. Спицына, С. Л. Студзинский, О. В. Третяк, Л. С. Тонкопиева, “Исследования фотопроводящих и фотодиэлектрических свойств гетероструктур из пленок поли-$N$-эпоксипропилкарбазола и MEH-PPV с добавкой октабутилфталоцианина цинка”, ЖТФ, 81:2 (2011), 103–107; Tech. Phys., 56:2 (2011), 259–263
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf9053 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v81/i2/p103
|
|