|
|
Журнал технической физики, 2011, том 81, выпуск 2, страницы 147–149
(Mi jtf9062)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 12 научных статьях (всего в 12 статьях)
Краткие сообщения
Влияние термообработки на структуру и термоэлектрические свойства CrSi$_2$
Ф. Ю. Соломкинa, Е. И. Сувороваb, В. К. Зайцевa, С. В. Новиковa, А. Т. Бурковa, А. Ю. Самунинa, Г. Н. Исаченкоa a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, 194021 Санкт-Петербург, Россия
b Институт кристаллографии им. А. В. Шубникова РАН, 119333 Москва, Россия
Аннотация:
Исследованы текстурированные образцы CrSi$_2$, полученные нагреванием мелкодисперсных исходных компонентов (Cr и Si). Использование смеси порошков (Cr и Si) позволило снизить температуру начала синтеза CrSi$_2$ на 100 K. Обнаружено влияние условий кристаллизации и последующего отжига на термоэлектрические свойства и стехиометрический состав образцов.
Поступила в редакцию: 25.05.2010
Образец цитирования:
Ф. Ю. Соломкин, Е. И. Суворова, В. К. Зайцев, С. В. Новиков, А. Т. Бурков, А. Ю. Самунин, Г. Н. Исаченко, “Влияние термообработки на структуру и термоэлектрические свойства CrSi$_2$”, ЖТФ, 81:2 (2011), 147–149; Tech. Phys., 56:2 (2011), 305–307
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf9062 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v81/i2/p147
|
|