|
|
Журнал технической физики, 2011, том 81, выпуск 10, страницы 122–128
(Mi jtf9266)
|
|
|
|
Эта публикация цитируется в 10 научных статьях (всего в 10 статьях)
Поверхность, электронная и ионная эмиссия
Особенности формирования пленки Fe$_3$O$_4$ на поверхности Si(111), покрытой тонким слоем SiO$_2$
В. В. Балашевab, В. В. Коробцовab, Т. А. Писаренкоab, Л. А. Чеботкевичb a Институт автоматики и процессов управления ДВО РАН, 690041 Владивосток, Россия
b Институт физики и информационных технологий, Дальневосточный федеральный университет, 690950 Владивосток, Россия
Аннотация:
Используя различные способы окисления Fe на поверхности Si(111), покрытой тонким (1.5 nm) слоем SiO$_2$, были выращены поликристаллические пленки магнетита. Установлено влияние дефектов пленки SiO$_2$ на процесс силицидообразования при нагреве пленки Fe. Обнаружено, что окисление пленки Fe при высокой температуре приводит как к образованию Fe$_3$O$_4$, так и моносилицида железа. С другой стороны, осаждение Fe в атмосфере O$_2$ при высокой температуре приводит к росту на поверхности SiO$_2$ однородной по составу пленки Fe$_3$O$_4$. Обнаружено, что данный метод синтеза приводит к формированию в пленке магнетита [311]-текстуры, ось которой нормальна поверхности. Проведено исследование влияния метода формирования на магнитные свойства выращенных пленок Fe$_3$O$_4$. Высокое значение коэрцитивной силы пленок Fe$_3$O$_4$, сформированных путем окисления пленки Fe, обусловлено морфологическими особенностями и неоднородностью состава пленки магнетита.
Поступила в редакцию: 11.01.2011
Образец цитирования:
В. В. Балашев, В. В. Коробцов, Т. А. Писаренко, Л. А. Чеботкевич, “Особенности формирования пленки Fe$_3$O$_4$ на поверхности Si(111), покрытой тонким слоем SiO$_2$”, ЖТФ, 81:10 (2011), 122–128; Tech. Phys., 56:10 (2011), 1501–1507
Образцы ссылок на эту страницу:
https://www.mathnet.ru/rus/jtf9266 https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v81/i10/p122
|
|