Журнал технической физики
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



ЖТФ:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Журнал технической физики, 2011, том 81, выпуск 10, страницы 122–128 (Mi jtf9266)  

Эта публикация цитируется в 10 научных статьях (всего в 10 статьях)

Поверхность, электронная и ионная эмиссия

Особенности формирования пленки Fe$_3$O$_4$ на поверхности Si(111), покрытой тонким слоем SiO$_2$

В. В. Балашевab, В. В. Коробцовab, Т. А. Писаренкоab, Л. А. Чеботкевичb

a Институт автоматики и процессов управления ДВО РАН, 690041 Владивосток, Россия
b Институт физики и информационных технологий, Дальневосточный федеральный университет, 690950 Владивосток, Россия
Аннотация: Используя различные способы окисления Fe на поверхности Si(111), покрытой тонким (1.5 nm) слоем SiO$_2$, были выращены поликристаллические пленки магнетита. Установлено влияние дефектов пленки SiO$_2$ на процесс силицидообразования при нагреве пленки Fe. Обнаружено, что окисление пленки Fe при высокой температуре приводит как к образованию Fe$_3$O$_4$, так и моносилицида железа. С другой стороны, осаждение Fe в атмосфере O$_2$ при высокой температуре приводит к росту на поверхности SiO$_2$ однородной по составу пленки Fe$_3$O$_4$. Обнаружено, что данный метод синтеза приводит к формированию в пленке магнетита [311]-текстуры, ось которой нормальна поверхности. Проведено исследование влияния метода формирования на магнитные свойства выращенных пленок Fe$_3$O$_4$. Высокое значение коэрцитивной силы пленок Fe$_3$O$_4$, сформированных путем окисления пленки Fe, обусловлено морфологическими особенностями и неоднородностью состава пленки магнетита.
Поступила в редакцию: 11.01.2011
Англоязычная версия:
Technical Physics, 2011, Volume 56, Issue 10, Pages 1501–1507
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063784211100033
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: В. В. Балашев, В. В. Коробцов, Т. А. Писаренко, Л. А. Чеботкевич, “Особенности формирования пленки Fe$_3$O$_4$ на поверхности Si(111), покрытой тонким слоем SiO$_2$”, ЖТФ, 81:10 (2011), 122–128; Tech. Phys., 56:10 (2011), 1501–1507
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{BalKorPis11}
\by В.~В.~Балашев, В.~В.~Коробцов, Т.~А.~Писаренко, Л.~А.~Чеботкевич
\paper Особенности формирования пленки Fe$_3$O$_4$ на поверхности Si(111), покрытой тонким слоем SiO$_2$
\jour ЖТФ
\yr 2011
\vol 81
\issue 10
\pages 122--128
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/jtf9266}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=20325295}
\transl
\jour Tech. Phys.
\yr 2011
\vol 56
\issue 10
\pages 1501--1507
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063784211100033}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf9266
  • https://www.mathnet.ru/rus/jtf/v81/i10/p122
  • Эта публикация цитируется в следующих 10 статьяx:
    Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Журнал технической физики Журнал технической физики
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025