Фокусировка поверхностной плазмонной волны на нановершине сканирующего металлического микроострия у плоскослоистой структуры

Сформулирован и обоснован обобщенный метод зеркальных отражений электростатики для точечного заряда, расположенного рядом с плоскослоистой структурой. Метод обобщён на случай произвольной системы зарядов. Подробно показано, как применить полученный метод к нахождению фокального распределения электрического поля в окрестности нановершины металлического микроострия, расположенного рядом с плоскослоистой структурой, которое получается при схождении поверхностной плазмонной ТМ волны к нановершине. Демонстрируется проникновение поля в область поверхностного слоя плоскослоистой структуры (фоторезист) размером порядка радиуса закругления острия.