Оптические свойства тонких пленок SiO$_{x}$ $(x<2)$, полученных обработкой термического диоксида кремния в водородной плазме

Методами эллипсометрии, квантово-химического моделирования и фотолюминесцентной спектроскопии проведено исследование оптических свойств и состава тонких плeнок термического оксида кремния, обработанных в водородной плазме электрон-циклотронного резонанса. Установлено, что обработка плeнок в плазме приводит к их обеднению кислородом и образованию нестехиометрического оксида SiO$_{x<2}$. Путeм сопоставления экспериментальной спектральной зависимости показателя преломления с теоретически рассчитанной из первых принципов определены значения параметра $x$ в полученных плeнках SiO$_{x}$. Показано, что увеличение времени обработки термического SiO$_{2}$ в водородной плазме приводит к увеличению показателя преломления плeнки, а также степени обеднения плeнки кислородом. Для исследуемых плeнок построена зависимость параметра $x$ от времени обработки в водородной плазме.