Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2019, том 53, выпуск 5, страницы 612–615
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2019.05.47548.06
(Mi phts5504)
 

XVI Международная конференция ''Термоэлектрики и их применения" - 2018 (ISCTA 2018), Санкт-Петербург, 8-12 октября 2018 г.

Термоэлектрические свойства твердого раствора $n$-Mg$_{2}$(SiGe)$_{0.8}$Sn$_{0.2}$

Г. Н. Исаченкоa, А. Ю. Самунинa, П. П. Константиновa, А. А. Касьяновb, А. М. Масалимовb

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
Аннотация: Высокие значения термоэлектрической добротности ($ZT$ = 1.5) в твердых растворах Mg$_{2}$Si–Mg$_{2}$Sn обусловлены низкой теплопроводностью и сложной зонной структурой, оптимальной при соотношении компонентов твердого раствора 40% Mg$_{2}$Si на 60% Mg$_{2}$Sn. Однако присутствие в большой концентрации станнида магния ухудшает механические характеристики и снижает химическую стабильность материала, ограничивая возможность его применения при высоких температурах. Силицид магния обладая более высокой стабильностью, проигрывает в термоэлектрической добротности. В твердых растворах со стороны силицида магния $ZT$ значительно ниже, составляет величины $\sim$1. Возможность повысить $ZT$ в твердом растворе Mg$_{2}$Si$_{0.8}$Sn$_{0.2}$ при дополнительном включении небольшого количества Mg$_{2}$Ge исследовано в данной работе. Образцы твердого раствора Mg$_{2}$(Si$_{1-x}$Ge$_{x}$)$_{0.8}$Sn$_{0.2}$ ($x<$ 0.03) приготовлены методом горячего прессования. Измерены температурные зависимости коэффициента термоэдс, электропроводности и теплопроводности. Показано увеличение термоэлектрической добротности до $ZT$ = 1.1 при 800 K в твердом растворе Mg$_{2}$Si$_{0.78}$Ge$_{0.02}$Sn$_{0.2}\langle\mathrm{Sb}\rangle$.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский фонд фундаментальных исследований 17-08-01302-a
Министерство образования и науки Российской Федерации 074-U01
Работа выполнена при поддержке грантом РФФИ № 17-08-01302-a и частично при поддержке грантом Правительства Российской Федерации 074-U01.
Поступила в редакцию: 20.12.2018
Исправленный вариант: 24.12.2018
Принята в печать: 28.12.2018
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2019, Volume 53, Issue 5, Pages 607–610
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782619050063
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: Г. Н. Исаченко, А. Ю. Самунин, П. П. Константинов, А. А. Касьянов, А. М. Масалимов, “Термоэлектрические свойства твердого раствора $n$-Mg$_{2}$(SiGe)$_{0.8}$Sn$_{0.2}$”, Физика и техника полупроводников, 53:5 (2019), 612–615; Semiconductors, 53:5 (2019), 607–610
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{IsaSamKon19}
\by Г.~Н.~Исаченко, А.~Ю.~Самунин, П.~П.~Константинов, А.~А.~Касьянов, А.~М.~Масалимов
\paper Термоэлектрические свойства твердого раствора $n$-Mg$_{2}$(SiGe)$_{0.8}$Sn$_{0.2}$
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2019
\vol 53
\issue 5
\pages 612--615
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5504}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2019.05.47548.06}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=37644642}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2019
\vol 53
\issue 5
\pages 607--610
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782619050063}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5504
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v53/i5/p612
  • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025