Физика и техника полупроводников
RUS  ENG    ЖУРНАЛЫ   ПЕРСОНАЛИИ   ОРГАНИЗАЦИИ   КОНФЕРЕНЦИИ   СЕМИНАРЫ   ВИДЕОТЕКА   ПАКЕТ AMSBIB  
Общая информация
Последний выпуск
Архив
Правила для авторов

Поиск публикаций
Поиск ссылок

RSS
Последний выпуск
Текущие выпуски
Архивные выпуски
Что такое RSS



Физика и техника полупроводников:
Год:
Том:
Выпуск:
Страница:
Найти






Персональный вход:
Логин:
Пароль:
Запомнить пароль
Войти
Забыли пароль?
Регистрация


Физика и техника полупроводников, 2019, том 53, выпуск 5, страницы 620–625
DOI: https://doi.org/10.21883/FTP.2019.05.47550.08
(Mi phts5506)
 

XVI Международная конференция ''Термоэлектрики и их применения" - 2018 (ISCTA 2018), Санкт-Петербург, 8-12 октября 2018 г.

Влияние температуры спекания на термоэлектрические свойства соединения Bi$_{1.9}$Gd$_{0.1}$Te$_{3}$

М. Н. Япрынцевa, А. Е. Васильевa, О. Н. Ивановab

a Белгородский государственный национальный исследовательский университет
b Белгородский государственный технологический университет имени В. Г. Шухова
Аннотация: Изучены закономерности влияния температуры спекания (750, 780, 810 и 840 K) на элементный состав, параметры кристаллической решетки, удельное электрическое сопротивление, коэффициент Зеебека, полную теплопроводнoсть и термоэлектрическую добротность соединения Bi$_{1.9}$Gd$_{0.1}$Te$_{3}$. Установлено, что в процессе высокотемпературного спекания элементный состав образцов изменяется вследствие интенсивного испарения теллура, что может приводить к формированию различных точечных дефектов (вакансий и антструктурных дефектов), влияющих на концентрацию и подвижность основных носителей заряда (электронов). Температура спекания сильно влияет на удельное электрическое сопротивление образцов, тогда как влияние на коэффициент Зеебека и полную теплопроводность выражено гораздо слабее. Наибольшее значение термоэлектрической добротности ($ZT\approx$ 0.55) наблюдалось для образца, спеченного при температуре 750 K.
Финансовая поддержка Номер гранта
Российский фонд фундаментальных исследований 18-32-00415
Исследование выполнено при финансовой поддержке РФФИ в рамках научного проекта № 18-32-00415.
Поступила в редакцию: 20.12.2018
Исправленный вариант: 24.12.2018
Принята в печать: 28.12.2018
Англоязычная версия:
Semiconductors, 2019, Volume 53, Issue 5, Pages 615–619
DOI: https://doi.org/10.1134/S1063782619050300
Реферативные базы данных:
Тип публикации: Статья
Образец цитирования: М. Н. Япрынцев, А. Е. Васильев, О. Н. Иванов, “Влияние температуры спекания на термоэлектрические свойства соединения Bi$_{1.9}$Gd$_{0.1}$Te$_{3}$”, Физика и техника полупроводников, 53:5 (2019), 620–625; Semiconductors, 53:5 (2019), 615–619
Цитирование в формате AMSBIB
\RBibitem{YapVasIva19}
\by М.~Н.~Япрынцев, А.~Е.~Васильев, О.~Н.~Иванов
\paper Влияние температуры спекания на термоэлектрические свойства соединения Bi$_{1.9}$Gd$_{0.1}$Te$_{3}$
\jour Физика и техника полупроводников
\yr 2019
\vol 53
\issue 5
\pages 620--625
\mathnet{http://mi.mathnet.ru/phts5506}
\crossref{https://doi.org/10.21883/FTP.2019.05.47550.08}
\elib{https://elibrary.ru/item.asp?id=37644644}
\transl
\jour Semiconductors
\yr 2019
\vol 53
\issue 5
\pages 615--619
\crossref{https://doi.org/10.1134/S1063782619050300}
Образцы ссылок на эту страницу:
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts5506
  • https://www.mathnet.ru/rus/phts/v53/i5/p620
  • Citing articles in Google Scholar: Russian citations, English citations
    Related articles in Google Scholar: Russian articles, English articles
    Физика и техника полупроводников Физика и техника полупроводников
     
      Обратная связь:
     Пользовательское соглашение  Регистрация посетителей портала  Логотипы © Математический институт им. В. А. Стеклова РАН, 2025